Question

電子工業中清洗硅片上的SiO₂(s)的反應是：?

SiO₂(s)+4HF(g) SiF₄(g)+2H₂O(g)?ΔH(298.15 K)=-94.0 kJ·mol^-1?

ΔS（298.15 K）=-75.8 J·mol^-1·K^-1?

設ΔH和ΔS不隨溫度而變化，試求此反應自發進行的溫度條件。????????????

Answer 1

解析：要使反應能夠自發進行，則ΔH-TΔS＜0即-94.0 kJ·mol^-1-T×(-75.8×10^-3 kJ·mol^-1·K^-1)＜0，T＜=1 240 K，即只有在溫度低于1 240 K時反應才能自發進行。

答案：溫度低于1 240 K時反應才能自發進行。