Question

10分）電子工業(yè)中清洗硅片上的SiO₂（s）的反應(yīng)是

SiO₂(s)+4HF(g) ==SiF₄(g)+2H₂O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol^-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol^-1 ·K^-1 設(shè)△H和△S不隨溫度而變，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度條件。

 

Answer 1

【答案】

1240K

【解析】

試題分析：根據(jù)△G＝△H－T·△S可知

當(dāng)△G＜0時(shí)反應(yīng)是自發(fā)進(jìn)行的

所以

所以該反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度是不難超過1240K

考點(diǎn)：考查△G的有關(guān)計(jì)算

點(diǎn)評(píng)：本題是基礎(chǔ)性試題的考查，試題注重基礎(chǔ)，難易適中。該題有利于培養(yǎng)學(xué)生的規(guī)范答題能力，提高學(xué)習(xí)效率。