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20.氮化硅(Si3N4)是高溫結構陶瓷,具有優良的性能,人們常常利用它來制造軸承、氣輪葉片、永久性模具等機械構件.設計的合成氮化硅工藝流程如下:

(1)①電弧爐中發生的主要化學反應方程式是SiO2+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(粗硅)+2CO↑.
②用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅,該反應的化學方程式為:SiO2+3C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$SiC+2CO↑,碳化硅俗稱金剛砂,具有金剛石結構.
(2)在流化床反應的產物中,SiCl4大約占85%,還有Cl2等,有關物質沸點數據如下表:
物質SiSiCl4Cl2
沸點/℃235557.6-34.1
提純SiCl4的主要工藝操作依次是沉降、冷凝,其中溫度最好控制在C(填字母).
A.略小于-34.1℃B.大于57.6℃C.略小于57.6℃D.-34.1℃
(3)①粉末狀Si3N4遇水能生成刺激性氣味,常用于做制冷劑的氣體和一種難溶性的酸,該反應的化學方程式是Si3N4+9H2O=4NH3↑+3H2SiO3↓.
②該合成氨化硅工藝流程中涉及的主要反應屬于氧化還原反應的有2個.

分析 (1)①石英砂主要成分為二氧化硅,二氧化硅和碳在高溫的條件下反應生成粗硅和一氧化碳;
②用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱生成碳化硅和一氧化碳,具有金剛石結構的碳化硅俗稱金剛砂;
(2)分析數據,結合蒸餾原理分析控制沸點分離物質;
(3)①Si3N4遇水水解,生成常用于做制冷劑的氣體為氨氣,一種難溶性的酸為硅酸,據此書寫;
②有元素的化合價變化的反應一定為氧化還原反應結合該合成氨化硅工藝流程中涉及的主要反應分析.

解答 解:(1)①二氧化硅與碳在高溫條件下反應生成硅和一氧化碳,化學方程式為:SiO2+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(粗硅)+2CO↑;
故答案為:SiO2+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(粗硅)+2CO↑;
②石英砂的主要成分是二氧化硅,在反應中生成碳化硅,反應為:SiO2+3C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$SiC+2CO↑,碳化硅俗稱金剛砂,
故答案為:SiO2+3C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$SiC+2CO↑;金剛砂;
(2)在流化床反應的產物中,SiCl4大約占85%,Si+3HCl═SiHCl3+H2,還有Cl2等,利用沸點的不同提純SiCl4屬于蒸餾,SiCl4(沸點57.6℃)中含有少量SiHCl3(沸點33.0℃)和HCl(沸點-84.7℃)和Cl2(沸點-34.1℃),由于沸點差別較大,可以通過精餾(或蒸餾)除去雜質,依據圖表數據分析可知,溫度應控制在略小于57.6℃,
故答案為:C;
(3)①Si3N4遇水水解,生成常用于做制冷劑的氣體為氨氣,一種難溶性的酸為硅酸,反應為:Si3N4+9H2O=4NH3↑+3H2SiO3↓,
故答案為:Si3N4+9H2O=4NH3↑+3H2SiO3↓;
②該合成氨化硅工藝流程中發生的主要反應是:SiO2+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(粗硅)+2CO↑(氧化還原反應),Si+2Cl2$\frac{\underline{\;△\;}}{\;}$SiCl4(氧化還原反應),3SiCl4+4NH3$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si3N4+12HCl(非氧化還原反應),
故答案為:2.

點評 本題考查了實驗方案設計的有關知識,側重考查了硅及其化合物的有關知識,注意粗硅的提純反應原理,題目難度中等.

練習冊系列答案
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(2)b、c、d三種元素的第一電離能數值由小到大的順序為S<O<N(填元素符號),其原因是同一周期,隨著原子序數的增加,元素的第一電離能呈現逐漸增大的趨勢,但氮元素的最外層電子達到半充滿的穩定構型,其第一電離能大于氧元素,同主族自上而下,元素第一電離能減小,氧元素第一電離能大于硫元素;.
(3)a和其他元素形成的二元共價化合物中,分子呈三角錐形,該分子的中心原子的雜化方式為sp3;分子中既含有極性共價鍵,又含有非極性共價鍵的化合物是H2O2、N2H4(填化學式,寫出兩種).
(4)已知c、e能形成晶胞如圖甲和圖乙所示的兩種化合物,化合物的化學式為分別為:甲CuO,乙Cu2O;甲高溫易轉化為乙的原因是Cu2O中Cu的d軌道為全充滿狀態,較穩定.
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