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A. 裝置①可用于分離C2H5OH和H2O的混合物

B. 裝置②可用于收集H2、NH3、CO2、Cl2、HCl、NO2等氣體

C. 裝置③中X若為CCl4，可用于吸收NH3或HCl，并防止倒吸

D. 裝置④可用于干燥、收集NH3，并吸收多余的NH3

A. 紅棕色的NO2加壓后顏色先變深后變淺 B. 溫度過高對合成氨不利

C. 鋼鐵在潮濕的空氣中容易生銹 D. 常溫下，將1mLpH=3的醋酸溶液加水稀釋至l00mL，測得其pH＜5

A.從E口逸出的是氫氣

B.向B口中加入含少量NaOH的溶液以增強導電性

C.標準狀況下每生成22.4 L Cl2，便產生2 mol NaOH

D.向電解后的陽極室溶液中加入適量鹽酸，各物質可以恢復到電解前的濃度

【題目】氮化硅（Si3N4）是一種新型陶瓷材料，它可由石英與焦炭在高溫的氮氣流中，通過以下反應制得：3SiO2+6C+2N2Si3N4+6CO。下列敘述正確的是

A.在氮化硅的合成反應中，N2是還原劑，SiO2是氧化劑

B.上述反應中每生成1molSi3N4，N2得到12mol電子

C.若已知上述反應為放熱反應，升高溫度，上述平衡向正反應方向移動

D.若使壓強增大，上述平衡向正反應方向移動

A.該裝置工作時，H+由b極區流向a極區

B.該制氫工藝中光能最終轉化為化學能

C.a極上發生的電極反應為Fe3++e-=Fe2+

D.a極區需不斷補充含Fe3+和Fe2+的溶液

A. 1 mol H2分子斷鍵需要吸收436 kJ的能量

B. H2(g)+1/2O2(g)＝H2O(g) ΔH＝－241.8 kJ/mol

C. 反應物的總能量高于生成物的總能量

D. 形成化學鍵釋放的總能量比斷裂化學鍵吸收的總能量小

【題目】設為阿伏加德羅常數的值，下列說法正確的是( )

A.常溫常壓下，與的混合氣體中含有分子總數為

B.羥基-OH和1mol甲基-CH3中含有的電子數均為

C.a mol苯乙烯中含有C-H鍵的數目為

D.與濃硫酸完全反應，生成氣體的分子數為

A.450 mLB.500 mLC.400 mLD.不能確定

(1) X、Y分子量之差為___________________。

(2)1個Y分子中應該有____________個氧原子。

(3) X的分子式是_____________________________________。

(4) G和X互為同分異構體，且具有相同的官能團，用芳香烴A合成G路線如下：

①寫出A的結構簡式____________________

② E→F的反應類型是_________反應，該反應的化學方程式為：____________________。

③寫出所有符合下列條件的F的同分異構體的結構簡式：

ⅰ．分子內除了苯環無其他環狀結構，且苯環上有2個對位取代基。

ⅱ．一定條件下，該物質既能與銀氨溶液發生銀鏡反應又能和FeCl3溶液發生顯色反應。

______________________________________________________________________。

【題目】設代表阿伏加德羅數的數值，下列說法中正確的是

A.的溶液中的數目為

B.分子中碳原子之間共用電子對數為

C.電解精煉銅時，若陰極得到電子數為個，則陽極質量減少64g

D.標準狀況下，完全溶于水轉移電子數為