A. | 高溫下用焦炭還原SiO2制取粗硅 | |
B. | 晶體硅熔點高硬度大,因此可用于制作半導體材料 | |
C. | 石英只能用于生產光導纖維 | |
D. | 玻璃容器可長期盛放各種酸 |
分析 A、工業上可用碳在高溫下還原二氧化硅的方法制取少量粗硅:SiO2+2C $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑;
B、硅元素位于金屬和非金屬元素之間,是良好的半導體材料;
C、石英的主要成分是二氧化硅;
D、氫氟酸與二氧化硅反應生成四氟化硅.
解答 解:A、工業上可用碳在高溫下還原二氧化硅的方法制取少量粗硅:SiO2+2C $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑,所以高溫下用焦炭還原SiO2制取粗硅,故A正確;
B、晶體硅可用于制作半導體材料,是因為其導電性介于導體與絕緣體之間,與熔點高硬度大無關,故B錯誤;
C、石英的主要成分是二氧化硅,純凈的二氧化硅用于生產光導纖維,結晶的二氧化硅(如水晶、瑪瑙等)用作飾物,故C錯誤;
D、氫氟酸與二氧化硅反應生成四氟化硅,所以玻璃容器并不是可長期盛放各種酸,如氫氟酸,故D錯誤;
故選A.
點評 本題考查硅及二氧化硅,明確物質的性質是解本題關鍵,知道硅、二氧化硅的用途,題目難度不大.
科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
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科目:高中化學 來源: 題型:解答題
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科目:高中化學 來源: 題型:實驗題
密度(g/cm3) | 熔點(.C) | 沸點(.C) | |
碘 | 4.93 | 113.5 | 184.35 |
苯 | 0.885 | 80.10 | 5.53 |
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科目:高中化學 來源: 題型:選擇題
A. | 反應開始到10s,用Z表示的反應速率為0.158mol/(L•s) | |
B. | 反應開始到10s,X的物質的量濃度減少了0.79mol/L | |
C. | 反應的化學方程式為:X(g)+Y(g)?Z(g) | |
D. | 反應開始到10s時,Y的轉化率為79.0% |
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科目:高中化學 來源: 題型:解答題
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科目:高中化學 來源: 題型:填空題
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科目:高中化學 來源: 題型:解答題
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科目:高中化學 來源: 題型:解答題
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