題目列表(包括答案和解析)
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(10分)氯堿工業的原料飽和食鹽水中含有一定量的銨根離子,在電解時會生成性質極不穩定的三氯化氮,容易引起爆炸。
(1)三氯化氮易水解,其水解的最初產物除生成氨氣外,另一產物為 ▲ 。
(2)為除去飽和食鹽水中的銨根離子,可在堿性條件下通入氯氣,反應生成氮氣。該反應的離子方程式為 ▲ 。該工藝選擇氯氣的優點是 ▲ 。(答一點即可)
(3)過量氯氣用Na2S2O3除去,反應中S2O32-被氧化為SO42-。若過量的氯氣為10-3 mol/L,則理論上生成的SO42-為 ▲ mol/L。
(4)生產和實驗中廣泛采用甲醛法測定樣品的含氮量。甲醛和銨根離子的反應如下:
4NH4++ 6HCHO =(CH2)6N4H+(一元酸)+ 3H+ + 6H2O
實驗步驟如下:
①甲醛中常含有微量甲酸,應先除去。可取甲醛bmL于錐形瓶,加入1滴酚酞,用濃度為Cmol/L的NaOH溶液中和,滴定管的初始讀數V1 mL,當溶液呈微紅色時,滴定管的讀數V2 mL。
②向其中加入飽和食鹽水試樣a mL,靜置1分鐘。
③再加1~2滴酚酞,再用上述NaOH溶液滴定至微紅色,滴定管的讀數V3 mL。
則飽和食鹽水中的含氮量為 ▲ mg/L。
氯堿工業中,通過電解飽和食鹽水獲得重要的化工原料:氯氣、氫氣和氫氧化鈉。其中氯氣用途十分廣泛,除用于凈水、環境消毒外,還用于生產鹽酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等。
(1)寫出工業上制取鹽酸的化學反應方程式:
(2)工業上可用氯氣和石灰乳為原料制造漂白粉,寫出漂白粉在空氣中的漂白原理(用化學方程式表示) 。
(3)工業上生產半導體材料硅的流程如下:
①寫出在制備粗硅時反應的化學方程式_____________________________,此反應中焦炭的作用是____________(填“氧化劑”或“還原劑”),若有 0.6mol硅生成,反應中轉移電子的物質的量是 mol。
②粗硅與氯氣反應后得到沸點較低的液態四氯化硅中;煊幸恍└叻悬c,難揮發性雜質,必須進行分離提純。其提純方法為____________。(填序號)
A.蒸餾 | B.過濾 | C.萃取 | D.結晶 |
(20分)氯堿工業中電解飽和食鹽水的原理示意圖,如圖所示:
(1)溶液A的溶質是 ;
(2)電解飽和食鹽水的離子方程式是 ;
(3)電解時用鹽酸控制陽極區溶液的pH在2~3,用化學平衡移動原理解釋鹽酸的作用 ;
(4)電解所用的鹽水需精制。
去除有影響的Ca2+、Mg2+、NH4+、SO42-[c(SO42-)>c(Ca2+)]。
精致流程如下(淡鹽水和溶液A來電解池):
①鹽泥a除泥沙外,還含有的物質是 。
②過程Ⅰ中將NH4+轉化為N2的離子方程式是
③BaSO4的溶解度比BaCO3的小,過程Ⅱ中除去的離子有
④經過程Ⅲ處理,要求鹽水中c 中剩余Na2SO3的含量小于5mg /L,若鹽水b中NaClO的含量是7.45 mg /L ,則處理10m3鹽水b ,至多添加10% Na2SO3溶液 kg(溶液體積變化忽略不計)。
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