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4.工業上由SiCl4制備高純硅時.不使用鈉.鎂等活潑金屬做還原劑.而是用氫氣作還原劑其原因是A.鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴.成本高 B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中 D.鈉或鎂的熔點沒有硅高 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

工業上由SiCl4制備高純硅時,不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是


  1. A.
    鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴,成本高
  2. B.
    鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強
  3. C.
    鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中
  4. D.
    鈉或鎂的熔點沒有硅高

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工業上由SiCl4制備高純硅時,不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是                                                    (    )

  A.鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴,成本高      

  B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強

  C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中

  D.鈉或鎂的熔點沒有硅高

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工業上由SiCl4制備高純硅時,不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是

       A.鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴,成本高

       B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強

       C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中

       D.鈉或鎂的熔點沒有硅高

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工業上由SiCl4制備高純硅時,不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是

[  ]

A.

鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴,成本高

B.

鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強

C.

鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中

D.

鈉或鎂的熔點沒有硅高

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工業上由SiCl4制備高純硅時,不使用鈉、鎂等活潑金屬做還原劑,而是用氫氣作還原劑其原因是
A.鈉或鎂等活潑金屬的價格昂貴,成本高
B.鈉或鎂等活潑金屬的還原性不及氫氣強
C.鈉或鎂等金屬可能與硅形成合金或殘留在硅中
D.鈉或鎂的熔點沒有硅高

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