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【題目】羥氨(NH2OH )為一元弱堿 (25℃時(shí) ，電離常數(shù) Kb=9.0×l0-9), 其電離方程式為：NH2OH+H2O NH3OH+ +OH-。用 0.lmol/L 鹽酸滴定 20mL0.l mol/L NH2OH 溶液，恒定 25℃時(shí)， 滴定過(guò)程中由水電離出來(lái)OH-濃度的負(fù)對(duì)數(shù)與鹽酸體積的關(guān)系如圖所示（已知：lg3=0.5) 。 下列說(shuō)法正確的是

A.A、B、C、D 四點(diǎn)對(duì)應(yīng)的溶液中 NH2OH 電離常數(shù)不相等

B.A 點(diǎn)對(duì)應(yīng)溶液的 pH=8.5

C.D點(diǎn)對(duì)應(yīng)溶液中存在：c(H+)=c(OH-)+c(NH3OH+)+c(NH2OH)

D.B點(diǎn)時(shí)溶液呈中性，C 點(diǎn)時(shí)溶液呈酸性

(1) Cu基態(tài)核外電子排布式為________________。

(2) 1 mol化合物Ⅰ分子中含有σ鍵數(shù)目為________。

(3) 化合物Ⅲ分子中sp3方式雜化的原子數(shù)目是____________。

(4) 向[Cu(NH3)4]SO4溶液中通入SO2至微酸性，有白色沉淀生成。分析表明該白色沉淀中Cu、S、N的物質(zhì)的量之比為1∶1∶1，沉淀中有一種三角錐形的陰離子和一種正四面體形的陽(yáng)離子。

①[Cu(NH3)4]SO4中存在的化學(xué)鍵類型有________(填字母)。

A．共價(jià)鍵　B．氫鍵　C．離子鍵　D．配位鍵　E. 分子間作用力

② 銅的氫化物的晶體結(jié)構(gòu)如圖所示，寫(xiě)出該晶體的化學(xué)式：____________。

（1）寫(xiě)出元素符號(hào)：A_________；C___________。

（2）B的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的化學(xué)式為_____。

（3）A的單質(zhì)的電子式為______； A的氫化物的水溶液與其最高價(jià)氧化物的水化物反應(yīng)的化學(xué)方程式為___________________________________________________________。

回答下列問(wèn)題：

（1）A的化學(xué)名稱為___________。

（2）中的官能團(tuán)名稱是___________。

（3）反應(yīng)③的類型為___________，W的分子式為___________。

（4）不同條件對(duì)反應(yīng)④產(chǎn)率的影響見(jiàn)下表：

上述實(shí)驗(yàn)探究了________和________對(duì)反應(yīng)產(chǎn)率的影響。此外，還可以進(jìn)一步探究________等對(duì)反應(yīng)產(chǎn)率的影響。

（5）X為D的同分異構(gòu)體，寫(xiě)出滿足如下條件的X的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式________________。

①含有苯環(huán)；②有三種不同化學(xué)環(huán)境的氫，個(gè)數(shù)比為6∶2∶1；③1 mol的X與足量金屬Na反應(yīng)可生成2 g H2。

（6）利用Heck反應(yīng)，由苯和溴乙烷為原料制備，寫(xiě)出合成路線________________。（無(wú)機(jī)試劑任選）

A.電子經(jīng)鋅片流向銅片

B.Cu為負(fù)極，Zn為正極

C.該裝置能將電能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能

D.鋅片上發(fā)生的反應(yīng)為 2H++2e-=H2↑

A. 17g羥基（－OH）所含有的電子數(shù)是10 NA個(gè)

B. 常溫下,14g乙烯含有的共用電子對(duì)數(shù)是2.5NA個(gè)

C. 12 g石墨中含有C﹣C鍵的個(gè)數(shù)為1.5NA

D. 標(biāo)準(zhǔn)狀況下，CH4發(fā)生取代反應(yīng)生成22.4LCH2Cl2，需要消耗2NA個(gè)Cl2分子

A. 該晶體屬于離子晶體

B. 晶體的化學(xué)式為Ba2O2

C. 該晶體晶胞結(jié)構(gòu)與NaCl相似

D. 與每個(gè)Ba2+距離相等且最近的Ba2+共有12個(gè)

A. 水合銅離子的模型如圖所示，1個(gè)水合銅離子中有4個(gè)配位鍵

B. CaF2晶體的晶胞如圖所示，每個(gè)CaF2晶胞平均占有4個(gè)Ca2＋

C. H原子的電子云圖如圖所示，H原子核外的大多數(shù)電子在原子核附近運(yùn)動(dòng)

D. 金屬Cu中Cu原子堆積模型如圖所示，該金屬晶體為最密堆積，每個(gè)Cu原子的配位數(shù)均為12

回答下列問(wèn)題：

(1)錫(Sn)是第五周期ⅣA元素。基態(tài)錫原子的價(jià)電子排布式為_________，據(jù)此推測(cè)，錫的最高正價(jià)是_________ 。

(2)與P同周期的主族元素中，電負(fù)性比P小的元素有____種，第一電離能比P大有____種。

(3)PH3分子的空間構(gòu)型為___________。PH3的鍵角小于NH3的原因是__________。

(4)化合物(CH3)3N能溶于水，試解析其原因____________。

(5)磷化硼是一種耐磨涂料，它可用作金屬的表面保護(hù)層。磷化硼晶體晶胞如圖所示：

①在一個(gè)晶胞中磷原子空間堆積方式為________，磷原子的配位數(shù)為________。

②已知晶胞邊長(zhǎng)a pm，阿伏加德羅常數(shù)為NA。則磷化硼晶體的密度為______ g/cm3。

③磷化硼晶胞沿著體對(duì)角線方向的投影如圖，請(qǐng)將表示B原子的圓圈涂黑________。

A.Ptl 電極附近發(fā)生的反應(yīng)為：SO2+ 2H2O-2e- =SO42-+4H+

B.該電池放電時(shí)電子從Pt l電極經(jīng)過(guò)外電路流到Pt2電極

C.Pt2電極附近發(fā)生的反應(yīng)為O2+4e- =2O2-

D.相同條件下，放電過(guò)程中消耗的 SO2和O2的體積比為 2 : 1