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硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式：_____________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式：____________________。

（2）化學研究性學習小組在探究硅的制取方法時，從資料查閱到下列信息：①Mg在高溫條件下可與SiO2反應；②金屬硅化物與稀H2SO4反應生成硫酸鹽和SiH4；③SiH4在空氣中自燃。

他們根據信息進行實驗，當用足量稀H2SO4溶解第①步實驗獲得的固體產物時，發現有爆鳴聲和火花；然后過濾、洗滌、干燥；最后稱量、計算，測得其產率只有預期值的63%左右。

①第①步實驗發生反應的化學方程式是 ；______ ____。

②用稀H2SO4溶解第①步實驗獲得固體產物時，產生爆鳴聲和火花的原因是(用化學方程式表示)_________________， 。