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【題目】單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質),粗硅與氯氣反應生成四氯化硅(反應溫度450500 ),四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物;

c.有關物質的物理常數見下表:

物質

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點/

57.7

12.8

315

熔點/

70.0

107.2

升華溫度/

180

300

162

請回答下列問題:

(1)寫出裝置A中發生反應的離子方程式:______________________________

(2)裝置F的名稱是___________________;裝置C中的試劑是_____________;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是_____________________________________

(3)裝置Eh瓶收集到的粗產物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質元素是____(填寫元素符號)

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預處理,使鐵元素還原成Fe2,再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定,反應的離子方程式為5Fe2MnO4-8H==5Fe3Mn24H2O

①滴定前是否要滴加指示劑?________(”)

②某同學稱取5.000 g殘留物,經預處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000×102 mol· L1 KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時,消耗標準溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質量分數是_____________

【答案】MnO24H2ClMn2Cl22H2O 干燥管 H2SO4 SiCl4沸點較低,用冷卻液可得到液態SiCl4 AlClP 4.48%

【解析】

制四氯化硅是由粗硅與Cl2反應得到的,所以必須先制得Cl2,因SiCl4極易水解,所以Cl2須干燥,再根據表格數據分析提純SiCl4的方法。

(1)裝置A中發生的反應為二氧化錳和濃鹽酸加熱制取氯氣,離子方程式為:MnO24H2ClMn2Cl22H2O,

故答案為:MnO24H2ClMn2Cl22H2O;

(2)裝置F的名稱是干燥管;裝置C中用濃H2SO4除水以制得干燥純凈的Cl2,故所盛試劑是濃H2SO4h瓶用冷卻液冷卻,主要目的是得到SiCl4

故答案為:干燥管;濃H2SO4 SiCl4沸點較低,用冷卻液可得到液態SiCl4

(3) 精餾粗產物得到SiCl4,溫度應控制在57.7°C,此時BCl3已汽化,但AlCl3FeCl3PCl3均殘留在瓶中,所以殘留雜質元素除鐵元素外是AlPCl

故答案為:AlClP

(4)①滴定時MnO4-是自身指示劑,終點時變為紫紅色且30 s內不變即可讀數,所以不需要滴加指示劑;

②根據反應的離子方程式為5Fe2MnO4-8H==5Fe3Mn24H2O

5Fe2~~~~MnO4-

5 1

x 1.000×102 mol·L10.020L2.000×104 mol

解得x1.000×103 mol,從100 mL中取出25 mL

原溶液中n(Fe2)4.000×103 mol

w100%4.48%

故答案為:4.48%

練習冊系列答案
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②一個N≡N鍵斷裂的同時,有6N﹣H鍵斷裂

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④恒溫恒容時,體系壓強不再改變

NH3、N2、H2的體積分數都不再改變

⑥恒溫恒容時,混合氣體密度保持不變

⑦正反應速率v(H2)=0.6molL1min1,逆反應速率v(NH3)=0.4molL1min1

A. 全部 B. ②③④⑤ C. ②③④⑤⑦ D. ③⑤⑥⑦

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B. Ⅲ含量雖少,卻是生物體正常生命活動不可缺少的

C. Ⅱ和Ⅲ為生物體的必需元素,一旦缺乏就可能會導致相應的病癥

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(3) H3BO3受熱分解得到的B2O3和鎂粉混合點燃可得單質B,生成單質B的化學方程式為________

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I.H3BO3+3CH3OH→B(OCH3)3+3H2O

II.B(OCH3)3+4NaH→NaBH4+3CH3ONa

①“反應I”的類型為__________(填標號)。

A.取代反應 B.加成反應 C.加聚反應 D.氧化反應

②NaH的電子式為_______________

③在堿性條件下,NaBH4與CuSO4溶液反應可得Cu和Na[B(OH)4],其中H元素由-1價升高為+1價,該反應的離子方程式為_____________________

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