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已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):

 (1)寫出反應②的化學方程式為_________________________________________。

(2)反應④中每消耗1 molG,轉移電子的物質的量為______________。

(3)反應⑥的離子方程式是___________________________________________。

(4)實驗室中保存I的方法是____________________________。

 

(1)寫出反應②的化學方程式為4NH3+5O2  =    4NO+6H2O_。

(2)反應④中每消耗1 molG,轉移電子的物質的量為2/3 mol。

(3)反應⑥的離子方程式是2Al +2OH+ 2H2O == 2AlO2+ 3H2↑。

(4)實驗室中保存I的方法是保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

解析:

 

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):

(1)寫出反應②的化學方程式
4NH3+5O2
 催化劑 
.
 
4NO+6H2O
4NH3+5O2
 催化劑 
.
 
4NO+6H2O

(2)反應④中每消耗1mol G,轉移電子的物質的量為
2
3
mol
2
3
mol

(3)反應⑥的離子方程式是
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2

(4)實驗室中保存I的方法是
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

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科目:高中化學 來源: 題型:

已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):
(1)請寫出下列物質的化學式C
NH3
NH3
、乙
Al
Al

(2)分別寫出反應④⑥的化學方程式
3NO2+H2O═2HNO3+NO
3NO2+H2O═2HNO3+NO
2NaOH+2Al+6H2O═2Na[Al(OH)4]+3H2
2NaOH+2Al+6H2O═2Na[Al(OH)4]+3H2

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科目:高中化學 來源: 題型:

(2012?開封一模)已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):
(1)寫出反應②的化學方程式
4NH3+5O2
催化劑
.
4NO+6H2O
4NH3+5O2
催化劑
.
4NO+6H2O

(2)反應④中每消耗1mol G,轉移電子的物質的量為
2
3
mol
2
3
mol

(3)反應⑥的離子方程式是
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2
2Al+2H2O+2OH-═2AlO2-+3H2

(4)寫出工業冶煉金屬乙的化學方程式
2Al2O3(熔融)
   電解   
.
冰晶石
4Al+3O2
2Al2O3(熔融)
   電解   
.
冰晶石
4Al+3O2

(5)實驗室中保存I的方法是
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處
保存在棕色試劑瓶中,放在陰涼處

(6)SiCl4與過量A在加熱條件下反應可制得高純硅,整個制備純硅的過程中必須嚴格控制無水無氧.SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產生白色煙霧,其生成物是
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

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科目:高中化學 來源: 題型:

已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):

(1)請寫出下列物質的化學式C__________、乙_____________;

(2)分別寫出反應④⑥的化學方程式__________、________________。

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科目:高中化學 來源:2010-2011學年陜西省、西工大附中高三第七次適應性訓練(理綜)化學部分 題型:填空題

(13分)已知:A、B為常見的非金屬單質且均為氣體;甲、乙為金屬單質,乙在I的濃溶液中發生鈍化;C、H、J的溶液均呈堿性.各物質間的轉化關系如下(部分生成物未給出,且未注明反應條件):

⑴寫出反應②的化學方程式                                             

⑵反應④中每消耗1 mol G,轉移電子的物質的量為                   

⑶反應⑥的離子方程式是                                               

⑷寫出工業冶煉金屬乙的化學方程式                                    

⑸實驗室中保存I的方法是                                            

⑹SiCl4與過量A在加熱條件下反應可制得高純硅,整個制備純硅的過程中必須嚴格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產生白色煙霧,其生成物是      ;H2還原SiCl4過程中若混入O2,可能引起的后果是               

 

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