閱讀快車系列答案科目：高中化學 來源： 題型：
| 物質 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸點/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
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科目：高中化學 來源： 題型：
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發由來已久，在現代生活中有廣泛應用。回答下列問題：
（1）1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產普通玻璃的主要原料有 。
（3）高純硅是現代信息、半導體和光伏發電等產業都需要的基礎材料。工業上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：
①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅，該反應的化學方程式為 ；碳化硅又稱 ，其晶體結構與 相似。
②在流化床反應的產物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有關物質的沸點數據如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 。
| 物質 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸點/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
③SiHCl3極易水解，其完全水解的產物為 。
（4）氯堿工業可為上述工藝生產提供部分原料，這些原料是 。
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科目：高中化學 來源：2013年全國普通高等學校招生統一考試化學（海南卷帶解析） 題型：填空題
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發由來已久，在現代生活中有廣泛應用。回答下列問題：
（1）1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產普通玻璃的主要原料有 。
（3）高純硅是現代信息、半導體和光伏發電等產業都需要的基礎材料。工業上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：
| | 發生的主要反應 |
| 電弧爐 | SiO2+2C Si+2CO↑ |
| 流化床反應器 | Si+3HCl SiHCl3+H2 |
| 還原爐 | SiHCl3+H2 Si+3HCl |
| 物質 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸點/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
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科目：高中化學 來源：2013-2014學年河北省邯鄲市高三第一次模擬考試理綜化學試卷（解析版） 題型：填空題
硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開發由來已久，在現代生活中有廣泛應用。回答下列問題：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統的無機非金屬材料，其中生產普通玻璃的主要原料有????????????????????? 。
（2）高純硅是現代信息、半導體和光伏發電等產業都需要的基礎材料。工業上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：
①工業上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生產碳化硅，則在電弧爐內可能發生的反應的化學方程式為??????????????????????? 。
②在流化床反應的產物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式?????????????????????????????? 。
（3）有關物質的沸點數據如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? ；SiHCl3極易水解，其完全水解的產物為??????? 。
物質 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
（4）還原爐中發生的化學反應為：???????????????????????????????? 。
（5）氯堿工業可為上述工藝生產提供部分原料，這些原料是??????? 。
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科目：高中化學 來源：2013年全國普通高等學校招生統一考試化學（海南卷解析版） 題型：填空題
硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發由來已久，在現代生活中有廣泛應用。回答下列問題：
（1）1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時，得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是 。
（2）陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中，生產普通玻璃的主要原料有 。
（3）高純硅是現代信息、半導體和光伏發電等產業都需要的基礎材料。工業上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：
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|
發生的主要反應 |
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電弧爐 |
SiO2+2C |
|
流化床反應器 |
Si+3HCl |
|
還原爐 |
SiHCl3+H2 |
①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅，該反應的化學方程式為 ；碳化硅又稱 ，其晶體結構與 相似。
②在流化床反應的產物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有關物質的沸點數據如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 。
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物質 |
Si |
SiCl4 |
SiHCl3 |
SiH2Cl2 |
SiH3Cl |
HCl |
SiH4 |
|
沸點/℃ |
2355 |
57.6 |
31.8 |
8.2 |
-30.4 |
-84.9 |
-111.9 |
③SiHCl3極易水解，其完全水解的產物為 。
（4）氯堿工業可為上述工藝生產提供部分原料，這些原料是 。
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Si+2CO↑
SiHCl3+H2
Si+3HCl