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硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。回答下列問題:

1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產普通玻璃的主要原料有?????????????????????

2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下:

工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600-1800除生成粗硅外,也可以生產碳化硅,則在電弧爐內可能發(fā)生的反應的化學方程式為???????????????????????

在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4SiH2Cl2SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式??????????????????????????????

3)有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為???????

物質

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點/

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

 

4)還原爐中發(fā)生的化學反應為:????????????????????????????????

5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是???????

 

【答案】

1)石英砂、純堿和石灰石(2分)

2SiO2 + 2CSi + 2CO↑2分)、SiO2 + 3CSiC + 2CO↑2分)

Si + 3HClSiHCl3 + H2 2分)

3)蒸餾(1分)?? H4SiO4(或H2SiO3)、H2HCl2分,答不全,少一種扣一分,但有錯不給分)

4SiHCl3 + H2 Si + 3HCl 2分)

5H2HCl2分)

【解析】

試題分析:(1)生產普通玻璃的主要原料有石英砂、純堿和石灰石

2石英砂的主要成分是SiO2,與C可能的反應有:SiO2 + 2CSi + 2CO↑SiO2 + 3CSiC + 2CO↑

粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式為Si + 3HClSiHCl3 + H2

3)硅的氯化物的熔點相差較大且互溶,所以采用蒸餾的方法可提純SiHCl3,從元素的種類上分析SiHCl3完全水解的產物有H4SiO4(或H2SiO3)、H2HCl

4)還原爐中發(fā)生的反應是氫氣還原SiHCl3,化學方程式為SiHCl3 + H2 Si + 3HCl

5)氯堿工業(yè)的產品有H2Cl2NaOH,所以為上述工藝生產提供部分原料是H2HCl

考點:考查化工生產中硅元素的利用,生產玻璃的原料、高純硅的制取,化學方程式中的產物分析

 

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用.回答下列問題:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產普通玻璃的主要原料有
 

(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料.工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如圖:
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①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生產碳化硅,則在電弧爐內可能發(fā)生的反應的化學方程式為
 

②在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式
 

(3)有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和
 
;SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為
 

物質 Si SiCl4 SiHCl3 SiH2Cl2 SiH3Cl HCl SiH4
沸點/℃ 2355 57.6 31.8 8.2 -30.4 -84.9 -111.9
(4)還原爐中發(fā)生的化學反應為:
 

(5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是
 

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科目:高中化學 來源: 題型:

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。回答下列問題:

       (1)1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時,得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是       

(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產普通玻璃的主要原料有       

(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下:

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅,該反應的化學方程式為        ;碳化硅又稱        ,其晶體結構與        相似。

②在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和       

物質

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

③SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為       

(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是       

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科目:高中化學 來源:2013年全國普通高等學校招生統(tǒng)一考試化學(海南卷帶解析) 題型:填空題

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。回答下列問題:
(1)1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時,得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是       
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產普通玻璃的主要原料有       
(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下:

 
發(fā)生的主要反應
電弧爐
SiO2+2CSi+2CO↑
流化床反應器
Si+3HClSiHCl3+H2
還原爐
SiHCl3+H2Si+3HCl
 
①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅,該反應的化學方程式為       ;碳化硅又稱       ,其晶體結構與       相似。
②在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和       
物質
Si
SiCl4
SiHCl3
SiH2Cl2
SiH3Cl
HCl
SiH4
沸點/℃
2355
57.6
31.8
8.2
-30.4
-84.9
-111.9
③SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為       
(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是       

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科目:高中化學 來源:2013-2014學年陜西省寶雞市高三質檢(一)理綜化學試卷(解析版) 題型:填空題

硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。回答下列問題:

1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產普通玻璃的主要原料有???????

2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下:

工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600-1800除生成粗硅外,也可以生產碳化硅,則在電弧爐內可能發(fā)生的反應的化學方程式為??????????????

在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4SiH2Cl2SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式?????????????????????

3)有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和??????? ;SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為???????

物質

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點/

2355

576

318

82

-304

-849

-1119

 

4)還原爐中發(fā)生的化學反應為:????????????????????????????????

5)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是???????

 

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科目:高中化學 來源:2013年全國普通高等學校招生統(tǒng)一考試化學(海南卷解析版) 題型:填空題

硅在地殼中的含量較高。硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應用。回答下列問題:

(1)1810年瑞典化學家貝采利烏斯在加熱石英砂、木炭和鐵時,得到一種“金屬”。這種“金屬”可能是       

(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸鹽材料。其中,生產普通玻璃的主要原料有       

(3)高純硅是現(xiàn)代信息、半導體和光伏發(fā)電等產業(yè)都需要的基礎材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下:

 

發(fā)生的主要反應

電弧爐

SiO2+2CSi+2CO↑

流化床反應器

Si+3HClSiHCl3+H2

還原爐

SiHCl3+H2Si+3HCl

 

①用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱也可以生產碳化硅,該反應的化學方程式為       ;碳化硅又稱       ,其晶體結構與       相似。

②在流化床反應的產物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,有關物質的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和       

物質

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點/℃

2355

57.6

31.8

8.2

-30.4

-84.9

-111.9

③SiHCl3極易水解,其完全水解的產物為       

(4)氯堿工業(yè)可為上述工藝生產提供部分原料,這些原料是       

 

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