Question

下列反應離子方程式正確的是（　�。�

• A、FeCl₃ 溶液刻蝕銅制的印刷電路板：Fe³⁺+Cu=Fe²⁺+Cu²⁺
• B、硅酸鈉溶液和稀硫酸混合：Na₂SiO₃+2H⁺=H₂SiO₃↓+2Na⁺
• C、Ba（OH）₂ 溶液與稀硫酸反應：Ba²⁺+OH^-+H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+H₂O
• D、向氯化鋁溶液中滴加過量氨水：Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺

Answer 1

考點：離子方程式的書寫

專題：離子反應專題

分析：A．電子、電荷不守恒；
B．硅酸鈉完全電離；
C．不符合離子的配比；
D．反應生成氫氧化鋁和氯化銨．

解答： 解：A．FeCl₃ 溶液刻蝕銅制的印刷電路板的離子反應為2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故A錯誤；
B．硅酸鈉溶液和稀硫酸混合的離子反應為SiO₃^2-+2H⁺=H₂SiO₃↓，故B錯誤；
C．Ba（OH）₂ 溶液與稀硫酸反應的離子反應為Ba²⁺+2OH^-+2H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+2H₂O，故C錯誤；
D．向氯化鋁溶液中滴加過量氨水的離子反應為Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故D正確；
故選D．

點評：本題考查離子反應方程式書寫的正誤判斷，為高頻考點，把握發生的反應及離子反應的書寫方法為解答的關鍵，側重氧化還原反應、復分解反應的離子反應考查，綜合性較強，題目難度不大．