Question

11．下列除雜所用的方法正確的是（　　）

• A． 除去CO₂氣體中的HCl：通過足量的飽和碳酸鈉溶液
• B． 除去NaCl中少量的MgCl₂：溶解后，加入過量的NaOH溶液，過濾后向濾液中加適量的鹽酸，蒸發結晶
• C． 除去FeCl₂溶液中的FeCl₃：加入足量的銅粉，過濾
• D． 除去Al₂O₃中的少量SiO₂：加入足量的NaOH溶液，過濾

Answer 1

分析 A．飽和的碳酸鈉溶液和CO₂、HCl都反應，所以不能用飽和的碳酸鈉溶液除去CO₂氣體中的HCl；
B．除去NaCl中少量的MgCl₂：溶解后，加入過量的NaOH溶液，將鎂離子轉化為氫氧化鎂沉淀，過濾后向濾液中加適量的鹽酸，蒸發結晶；
C．Cu和FeCl₃反應生成FeCl₂、CuCl₂，引進新的雜質；
D．Al₂O₃、SiO₂都能和NaOH溶液反應生成可溶性鈉鹽，Al₂O₃和HF不反應，但SiO₂和HF反應生成四氟化硅．

解答 解：A．飽和的碳酸鈉溶液和CO₂、HCl都反應，所以不能用飽和的碳酸鈉溶液除去CO₂氣體中的HCl，應該用飽和的NaHCO₃溶液除去，故A錯誤；
B．除去NaCl中少量的MgCl₂：溶解后，加入過量的NaOH溶液，將鎂離子轉化為氫氧化鎂沉淀，過濾后向濾液中加適量的鹽酸，鹽酸具有揮發性，所以蒸發結晶得到純凈的NaCl，故B正確；
C．Cu和FeCl₃反應生成FeCl₂、CuCl₂，引進新的雜質，應該用Fe除去氯化鐵，然后過濾即可，故C錯誤；
D．Al₂O₃、SiO₂都能和NaOH溶液反應生成可溶性鈉鹽，Al₂O₃和HF不反應，但SiO₂和HF反應生成四氟化硅，所以應該用HF除去二氧化硅，故D錯誤；
故選B．

點評 本題考查物質分離和提純，為高頻考點，明確物質性質差異性是解本題關鍵，根據物質性質差異性選取合適的除雜劑，結合合適的分離方法來分離提純物質，注意：除雜時要除去雜質且不能引進新的雜質，易錯選項是D．