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2．能反映甲烷分子是以碳原子為中心的正四面體結構，而不是正方形平面結構的事實是（　　）
A．CH3Cl無同分異構體B．CH2Cl2無同分異構體
C．CHCl3無同分異構體D．CH4是共價化合物

分析 如果甲烷是正方形的平面結構，而CH2Cl2有兩種結構：相鄰或者對角線上的氫被Cl取代，而實際上，其二氯取代物只有一種結構，因此只有正四面體結構才符合，以此解答該題．

解答 解：A．無論甲烷分子是以碳原子為中心的正四面體結構，還是平面正方形結構，CHCl3都不存在同分異構體，故A錯誤；
B．甲烷是正方形的平面結構，而CH2Cl2有兩種結構：相鄰或者對角線上的氫被Cl取代，而實際上，其二氯取代物只有一種結構，因此只有正四面體結構才符合，故B正確；
C．無論甲烷分子是以碳原子為中心的正四面體結構，還是平面正方形結構，CHCl3都不存在同分異構體，故C錯誤；
D．CH4是共價化合物不能說明甲烷分子的結構特點，故D錯誤．
故選B．

點評 本題考查常見有機化合物的結構，為高頻考點，側重于學生的分析能力的考查，題目難度中等，注意CH2Cl2只代表一種物質，可以證明甲烷分子是空間正四面體結構，而不是平面正方形結構．

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：實驗題

12．淺綠色的硫酸亞鐵銨晶體[又名莫爾鹽（NH4）2SO4•FeSO4•6H2O]比綠礬（FeSO4•7H2O）更穩定，常用于定量分析．莫爾鹽的一種實驗室制法如下：
廢鐵屑清洗稀硫酸溶液A（NH4）2SO4晶體操作Ⅰ乙醇淋洗莫爾鹽
（1）向廢鐵屑中加入稀硫酸后，并不等鐵屑完全溶解而是剩余少量時就進行過濾，其目的是防止Fe2+離子被氧化為Fe3+離子；
證明溶液A不含Fe3+的最佳試劑是b（填序號字母）．
a．酚酞溶液    b．KSCN溶液      c．燒堿溶液        d．KMnO4溶液
操作Ⅰ的步驟是加熱蒸發、冷卻結晶、過濾．
（2）濃度均為0.1mol/L莫爾鹽溶液和（NH4）2SO4溶液，c（NH4+）前者大于后者，原因是莫爾鹽中的Fe2+離子易水解，趨使溶液顯酸性，抑制NH4+水解，故c（NH4+）前者大于后者．
（3）用托盤天平稱量（NH4）2SO4晶體，晶體要放在天平左（填“左”或“右”）盤．
（4）從下列裝置中選取必要的裝置制取（NH4）2SO4溶液，連接的順序（用接口序號字母表示）是a接d；e接f．

（5）將裝置C中兩種液體分離開的操作名稱是分液．裝置D的作用是吸收多余的NH3防止污染空氣，防止倒吸．

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

13．在化學反應中，確認先后順序有利于解決問題，下列化學反應先后順序判斷正確的是（　　）
A．含等物質的量的Cu2+、Ag+、H+的溶液中加入鐵粉直至過量：Cu2+、Ag+、H+
B．在含Al3+、H+、NH4+的溶液中逐漸加入過量燒堿溶液：H+、NH4+、Al3+
C．含等物質的量的Ba（OH）2、KOH的溶液中，緩慢通入CO2至過量：KOH、Ba（OH）2
D．在含I-、Br-、Fe2+的溶液中通入過量Cl2：I-、Fe2+、Br-

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

10．設阿伏加德羅常數為NA，則下列說法正確的是（　　）
A．15g甲基（-CH3）所含有的電子數是NA
B．常溫常壓下，4g氦氣所含有的原子數目為NA
C．標準狀況下，1L己烷充分燃燒后生成的氣態產物的分子數為$\frac{6}{22.4}$NA
D．常溫常壓下，1mol丙烷所含有的共價鍵數目為12NA

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

17．有一支盛有溶液的50ml滴定管，其液面恰好在10.00ml，現把滴定管里的溶液全部排出，用量筒承接，量筒內溶液的體積為（　　）
A．大于40.00mlB．40.00mlC．大于10.00mlD．10.00ml

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

7．下列關于摩爾的敘述正確的是（　　）
A．它是物質的數量單位B．它是物質的質量單位
C．它是物質的量的單位D．它是物質所含的粒子個數

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

14．已知有1-氯丙烷制取1，2-丙二醇，經過下列反應步驟：消去→加成→水解．用溴乙烷為原料制取乙炔（HC≡CH）和乙二醇（）．請用化學方程式表示合成過程．

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

11．化學無處不在，下列與化學有關的說法不正確的是（　　）
A．食鹽可做調味劑，也可做食品防腐劑
B．單質硅是制造太陽能電池和光導纖維的常用材料
C．用浸泡過高錳酸鉀溶液的硅藻土保鮮水果
D．聚乙烯塑料制品可用于食品的包裝

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

12．如表數據是在某溫度下，金屬鎂和鎳（Ni）分別在氧氣中進行氧化反應時，在金屬表面生成氧化薄膜的實驗記錄：
反應時間/h1491625
MgO層厚/nm0.05a0.2a0.45a0.8a1.25a
NiO層厚/nmb2b3b4b5b
注：a和b均為與溫度有關的常數，nm表示“納米”
請回答：
Mg與Ni比較，哪一種更易氧化？Mg，其理由是氧化鎂厚度增加的速度比氧化鎳快．如果用Y表示氧化鎂膜層厚，用t表示形成氧化薄膜層厚所需時間，Y和t的關系為Y=0.05at，Y=$\sqrt{t}$b．

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