Question

2．硅單質及其化合物應用范圍很廣．請回答下列問題：
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制 備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由SiHCl₃（純）制備高純硅的化學反應方程式SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl．
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl₃（粗）遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和氫氣，寫出化學反應方程式SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl
③石英砂的主要成分是二氧化硅，高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維．二氧化硅和二氧化碳一樣，也能與氫氧化鈉溶液生成硅酸鈉（其水溶液稱水玻璃）和水．請寫出二氧化硅與氫氧化鈉溶液的化學方程式2NaOH+SiO₂═Na₂SiO₃+H₂O．

Answer 1

分析 根據已有的化學方程式的書寫的以及物質的性質進行分析解答有關的問題．

解答 解：（1）①SiHCl₃能與氫氣高溫反應生成硅和氯化氫氣體，反應的方程式是：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；
②SiHCl₃與水反應生成H₂SiO₃，HCl和氫氣反應的方程式是：SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl；
③氫氧化鈉能與二氧化硅反應生成硅酸鈉和水，反應的方程式是：2NaOH+SiO₂=Na₂SiO₃+H₂O．
故答為：（1）①SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；②SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃↓+H₂↑+3HCl．（2）2NaOH+SiO₂═Na₂SiO₃+H₂O．

點評 本題考查的是化學方程式的書寫的知識，完成此題，可以依據已有的知識進行．