（2009?泰州模擬）高純超凈特種氣體主要用于制造半導體器件、化合物半導體、激光器、光導纖維、太陽能電池等．超純硅化氫制備方法如下：（已知：常溫下SiH
4難溶于水，與稀硫酸不反應，乙醚沸點34.6℃）
①由下列兩種方法制得SiH
4方法一：Mg
2Si+4NH
4Cl
SiH
4+2MgCl
2+4NH
3方法二：LiAlH
4+SiCl
4SiH
4+AlCl
3+LiCl
②除去SiH
4中混有的雜質氣體
請回答下列問題：
（1）對方法一的理解，有同學認為是NH
4+水解產生H
+，Mg
2Si與H
+反應生成SiH
4，你認為該觀點是否正確？并簡述理由
不正確，因為該反應在液氨中進行，非水體系，不會水解
不正確，因為該反應在液氨中進行，非水體系，不會水解
．
（2）將方法二的固體產物溶于水，只有一種物質能促進水的電離，則NaOH、Mg（OH）
2、LiOH堿性由強到弱的順序為
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
．
（3）兩種方法制得的SiH
4中均含有少量雜質，有同學提出用下列方法除去SiH
4中的雜質，其中肯定不可行是
b
b
．
a．用稀硫酸洗氣 b．高溫使雜質分解 c．低溫分餾
（4）甲、乙、丙三同學在討論SiH
4制備方法的化學反應類型時發表如下觀點，你認為正確的是
bc
bc
．
a．甲同學認為兩個反應均為氧化還原反應
b．乙同學認為兩個反應中只有一個屬于氧化還原反應
c．丙同學認為要判斷是否屬于氧化還原反應，還需要知道SiH
4中各元素具體的化合價．
