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三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體.它無色.無臭.在潮濕的空氣中能發生下列反應: 3NF3+5H2O == 2NO+HNO3+9HF.下列有關說法正確的是 A. 反應中NF3是氧化劑.H2O是還原劑 B. 反應中被氧化與被還原的原子物質的量之比為2∶1 C. 若反應中生成0.2 mol HNO3.則反應共轉移0.2 mol e- D. NF3在潮濕空氣中泄漏會產生白霧.紅棕色氣體等現象 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體,無色、無臭,在潮濕空氣中泄露會產生白霧、紅棕色氣體等現象,反應方程式為:aNF3+bNF3=c  +dHNO3+eHF。下列說法正確的是

A.反應方程式橫線處物質為NO,且a=3、b=5、c=2、d=1、e=9

B.反應中被氧化與被還原的原子物質的量之比為2:1

C.若反應中生成0.2molHNO3,則反應共轉移0.2mole

D.反應中NF3是氧化劑,H2O是還原劑

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三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體。它無色、無臭,在潮濕的空氣中能發生下列反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF,下列有關說法正確的是

A.反應中NF3是氧化劑,H2O是還原劑

B.反應中被氧化與被還原的原子物質的量之比為2∶1

C.若反應中生成0.2mol HNO3,則反應共轉移0.2mol e

D.NF3在潮濕的空氣中泄漏會產生白霧、紅棕色氣體等現象

 

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三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體。它無色、無臭,在潮濕

的空氣中能發生下列反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF, 下列有關說法正確的是

A.反應中NF3是氧化劑,H2O是還原劑

B.反應中被氧化與被還原的原子物質的量之比為2∶1

C.若反應中生成0.2mol HNO3,則反應共轉移0.2mol e

D.NF3在潮濕空氣中泄漏會產生白霧、紅棕色氣體等現象

 

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三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體。它無色、無臭,在潮濕的空氣中能發生下列反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF, 下列有關說法正確的是(   )

A.反應中NF3是氧化劑,H2O是還原劑

B.NF3在潮濕空氣中泄漏會產生白霧、紅棕色氣體等現象

C.若反應中生成0.2mol HNO3,則反應共轉移0.2mol e

D.反應中被氧化與被還原的原子物質的量之比為2∶1

 

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三氟化氮(NF3)是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體。它無色,在潮濕的空氣中能發生下列反應:3NF3+5H20=2NO+HNO3+9HF。下列說法正確的是

A.反應中NF3是氧化劑,H2O是還原劑

B.反應中被氧化與被還原的原子的物質的量之比為2:l

C.若反應生成0.2 mol HNO3,則反應中共轉移0.2 mol電子

D.NF3在潮濕的空氣中泄漏會產生白霧、紅棕色氣體等現象

 

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