3．半圓柱體P放在粗糙的水平地面上.緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN.在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q.整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài).如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離.在此過程中Q末落地且P一直保持靜止．下列說法中正確的是( ) A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小 B．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大 C．P.Q間的彈力先減小后增大 D．P對(duì)地面的壓力不變【查看更多】

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離，在此過程中Q末落地且P一直保持靜止．下列說法中正確的是

A.
MN對(duì)Q的彈力逐漸減小
B.
地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大
C.
P、Q間的彈力先減小后增大
D.
P對(duì)地面的壓力不變

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖。若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離，在此過程中Q末落地且P一直保持靜止。下列說法中正確的是

[ ]

A、MN對(duì)Q的彈力逐漸減小
B、地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大
C、P、Q間的彈力先減小后增大
D、P對(duì)地面的壓力不變

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半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離，在此過程中Q末落地且P一直保持靜止．下列說法中正確的是

A．

MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

C．

P、Q間的彈力先減小后增大

D．

P對(duì)地面的壓力不變

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（2006?淮安一模）半圓柱體P放在粗糙的水平地面上，緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離，在此過程中Q末落地且P一直保持靜止．下列說法中正確的是（　　）

A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小

B．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大

C．P、Q間的彈力先減小后增大

D．P對(duì)地面的壓力不變

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半圓柱體P放在極粗糙的水平地面上，緊靠其右側(cè)有豎直擋板MN，在P和MN之間放有一個(gè)質(zhì)量均勻的光滑小圓柱體Q，整個(gè)裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，如圖所示是這個(gè)裝置的截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動(dòng)一段距離，在此過程中Q末落地且P一直保持靜止．下列說法中正確的是：[ ]
A．MN對(duì)Q的彈力逐漸減小 B．地面對(duì)P的摩擦力逐漸增大
C．P、Q間的彈力先減小后增大 D．P對(duì)地面的壓力不變

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