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硅單質.SiO2的重要性質 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

單質硅是很重要的工業產品。
(1)硅用于冶煉鎂,也稱硅熱法煉鎂。根據下列條件:
Mg(s)+ 1/2O2(g)= MgO(s)  △H1=-601.8 kJ/mol
Mg(s)= Mg(g)                △H2=+75 kJ/mol
Si(s) + O2(g) = SiO2(s)   △H3= -859.4 kJ/mol
則2MgO(s)+ Si(s)= SiO2(s)+ 2Mg(g)  △H =        
Mg-NiOOH水激活電池是魚雷的常用電池,電池總反應是:Mg+2NiOOH+2H2O=Mg(OH)2+ 2Ni(OH)2,寫出電池正極的電極反應式                       
(2)制備多晶硅(硅單質的一種)的副產物主要是SiCl4,SiCl4對環境污染很大,遇水強烈水解,放出大量的熱。研究人員利用SiCl4和鋇礦粉(主要成分為BaCO3,且含有Fe3+、Mg2+等離子)制備BaCl2·2H2O和SiO2等物質。工藝流程如下:

已知: 25℃ Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38, Ksp[Mg(OH)2]=1.8×10-11;通常認為殘留在溶液中的離子濃度小于1×10-5mol/L時,沉淀就達完全。回答下列問題:
①SiCl4發生水解反應的化學方程式為_______________________________________。
②若加鋇礦粉調節pH=3時,溶液中c(Fe3+)=             
③若用10噸含78% BaCO3的鋇礦粉,最終得到8.4噸BaCl2·2H2O (M=244g/mol),則產率為      
④濾渣C能分別溶于濃度均為3mol/L的溶液和溶液(中性)。請結合平衡原理和必要的文字解釋濾渣C能溶于3mol/L的溶液的原因______。

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氯氣是十分重要的化工原料.它的用途十分廣泛,除用于凈水、環境消毒外,還用于生產鹽酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等.

(1)工業上可用氯氣和石灰乳為原料制造漂白粉,寫出該反應的化學方程式
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O
Ca(OH)2+2Cl2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O

(2)工業上生產半導體材料硅的流程如下:
①寫出在制備粗硅時反應的化學方程式
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
,在該反應的化學方程式上用單線橋標出電子的轉移方向和數目

②粗硅與氯氣反應后得到沸點較低的液態四氯化硅中常混有一些高沸點,難揮發性雜質,必須進行分離提純.其提純方法為
A
A
.(填序號)
A.蒸餾        B.過濾         C.萃取       D.結晶
③由四氯化硅通入氫氣得到高純硅和氯化氫氣體,寫出該反應的化學方程式:
SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
Si+4HCl↑
SiCl4+2H2
 高溫 
.
 
Si+4HCl↑

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碳、硅元素的單質及其化合物是構成自然界的重要物質.
(1)甲烷是最簡單的有機物,實驗室可通討下列反應制取:CH3COONa+NaOH
△CaO
CH4↑+X(已配平)
①X屬于
離子
離子
晶體(填晶體類型).
②MgO晶體的熔點比CaO高,主要原因是
Mg2+半徑比Ca2+小,鍵能較大
Mg2+半徑比Ca2+小,鍵能較大

(2)金剛石和石墨是兩種重要的碳單質.以Ni-Cr-Fe為催化劑,一定條件下可將石墨轉化為金剛石.基態Cr3+離子中未成對電子數有
3
3
個.
(3)甲硅烷能與硝酸銀發生如下反應:SiH4+8AgNO3+2H2O=8Ag↓+SiO2↓+8HNO3該反應中氫元素被氧化,由此可判斷電負性:Si
H(填“>”、“<”或“=”)
(4)下圖中,能正確表示與Si同周期部分元素的第三電離能(I3)與原子序數關系的是
D
D
 (填標號).

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晶體硅是一種重要的非金屬材料.請寫出晶體硅的二種用途:
計算機芯片
計算機芯片
太陽能電池
太陽能電池
.制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3(常溫下為液態,易揮發)
③SiHCl3與過量H2在1000~1100℃反應制得純硅.
已知:
Ⅰ.SiHCl3水解會生成兩種氣態產物,請寫出其水解的化學方程式:
SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑
SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl↑

Ⅱ.SiHCl3 在空氣中自燃.請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑

(2)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去)

①裝置B中的試劑是
濃H2SO4
濃H2SO4
,裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是
使SiHCl3氣化
使SiHCl3氣化

②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現象是
D石英管的內壁附有灰黑色晶體
D石英管的內壁附有灰黑色晶體
,裝置D中發生反應的化學方程式為
SiHCl3+H2
 高溫 
.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 高溫 
.
 
Si+3HCl

③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及
先通一段時間H2,將裝置中的空氣排盡
先通一段時間H2,將裝置中的空氣排盡

④設計鑒定產品硅中是否含少量Fe單質的方法:
取少量產品于試管中加鹽酸溶解,再滴加氯水和KSCN(aq),若出現紅色說明含Fe,若不出現紅色說明不含Fe.
取少量產品于試管中加鹽酸溶解,再滴加氯水和KSCN(aq),若出現紅色說明含Fe,若不出現紅色說明不含Fe.

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晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備高純硅的主要流程如圖所示:

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,生成一種可燃燒的單質氣體和兩種酸.請回答下列問題:
(1)寫出制備粗硅的化學方程式
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO

(2)在生成SiHCl3的反應中,還原劑與還原產物的質量比為
14:1
14:1

(3)整個制備過程必須控制無水無氧,若有水可能發生的反應是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2

(4)下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是
B C D
B C D
(填字母代號)
A.二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結合
B.用于現代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C.硅與碳位于同一主族,性質相似,在自然界中廣泛存在著游離態的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可與強堿(如NaOH)溶液反應,而不與任何酸反應.

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