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硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式　          　　。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和H₂，該反應的氧化劑是             ；H₂還原過程中若混O₂，可能引起的后果是            。（2）下列有關硅材料的說法正確的是      （填字母）。

A．晶體硅和二氧化硅晶體的結構都類似金剛石，都常用來制造電子部件。

B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承。

C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂為原料制成的，沒有固定的熔點。

D．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅。

（3）三硅酸鎂（2MgO?3SiO₂?nH₂O）被用來治療胃潰瘍，是因為該物質不溶于水，服用后能中和胃酸，作用持久。寫出三硅酸鎂與胃酸（鹽酸）反應的化學方程式：

合成氨生產技術的創(chuàng)立開辟了人工固氮的途徑，對化學工業(yè)技術也產生了重大影響。

(1) 500℃、50MPa時，在容積為5L的密閉容器中加入4 mol N₂、8 mol H₂，反應達平衡時N₂的轉化率為25%，該反應的平衡常數(shù)為K，則K＝__________________。

(2) 500℃、50MPa時，在容積為5L的密閉容器中，按下列配比作為起始物質，達到平衡后N₂的轉化率仍為25%的是_____________

A．2molN₂+4molH₂                      B．2molN₂+4molH₂+ 6molHe

C．4molN₂+8molH₂+6molHe              D．3molN₂+5molH₂+2molNH₃

(3)希臘阿里斯多德大學的 George Marnellos 和 Michael Stoukides，發(fā)明了一種合成氨的新方法，在常壓下，把氫氣和用氦氣稀釋的氮氣分別通入一個加熱到570℃的電解池，利用能通過氫離子的多孔陶瓷固體作電解質，氫氣和氮氣在電極上合成了氨，轉化率達到78%，試寫出電解池陰極的電極反應式　　　　                   　　　。

(4)合成氨工廠常通過測定反應前后混合氣體的密度來確定N₂的轉化率。某工廠測得反應前合成塔中N₂和H₂混合氣體的密度為0.554g·L^-1，從合成塔出來的混合氣體在相同條件下密度為0.693g·L^-1(密度均在標準狀況下測定)，則該合成氨廠N₂的轉化率_____________。

合成氨生產技術的創(chuàng)立開辟了人工固氮的途徑，對化學工業(yè)技術也產生了重大影響。

(1) 500℃、50MPa時，在容積為5L的密閉容器中加入4 mol N₂、8 mol H₂，反應達平衡時N₂的轉化率為25%，該反應的平衡常數(shù)為K，則K＝__________________。

(2) 500℃、50MPa時，在容積為5L的密閉容器中，按下列配比作為起始物質，達到平衡后N₂的轉化率仍為25%的是_____________

A．2molN₂+4molH₂                     B．2molN₂+4molH₂+ 6molHe

C．4molN₂+8molH₂+6molHe             D．3molN₂+5molH₂+2molNH₃

(3)希臘阿里斯多德大學的 George Marnellos 和Michael Stoukides，發(fā)明了一種合成氨的新方法，在常壓下，把氫氣和用氦氣稀釋的氮氣分別通入一個加熱到570℃的電解池，利用能通過氫離子的多孔陶瓷固體作電解質，氫氣和氮氣在電極上合成了氨，轉化率達到78%，試寫出電解池陰極的電極反應式　　　　                  　　　。

(4)合成氨工廠常通過測定反應前后混合氣體的密度來確定N₂的轉化率。某工廠測得反應前合成塔中N₂和H₂混合氣體的密度為0.554g·L^-1，從合成塔出來的混合氣體在相同條件下密度為0.693g·L^-1(密度均在標準狀況下測定)，則該合成氨廠N₂的轉化率_____________。