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下列有關溶液性質的敘述，正確的是

A、室溫時飽和的二氧化碳水溶液，冷卻到0⁰C時，會放出CO₂氣體。

B、20⁰C，100g水可溶解34.2gKCl，此時KCl的飽和溶液的質量分數為34.2%

C、強電解質在水中溶解度一定大于弱電解質

D、相同溫度下，把水面上的空氣換成相同壓強的純氧，100g水中溶入氧氣的質量增加

X、Y、Z、W均為含有10電子的微粒，W為金屬陽離子，X、Y、Z常溫下為氣體，
（1）已知： W + X + H₂O → 白色沉淀。
①若實驗室用下圖所示裝置、干燥和收集裝置制取并收集干燥的X，A中分液漏斗中的液態試劑的儀器的名稱是________，儀器的連接順序為a→________________________；

②由W離子形成的可溶性鹽WCl_n，其水溶液顯_________性，原因是(用離子方程式表示)_____________________________________________________
③為進一步確定W，進行如下實驗，請補全實驗操作、現象和結論：取上述白色沉淀少量置于試管中，_____________________________________________________
（2）常溫下，取10 mLpH= a的Y的稀溶液，加水稀釋時pH隨溶液體積V的變化如圖所示，則①Y的化學式為__________。

②下列有關Y的敘述正確的是__________

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO₂粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na₂SiO₃等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH^一反應，生成SiO₄^4一，然后SiO₄^4一迅速水解生成H₄SiO₄。基于此原理分析反應中氧化劑為                     。

（3）本校化學興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H₂O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH₄）與氨氣（NH₃）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH₄能與水發生氧化還原反應生成H₂；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH₄+4NH₃＝Si₃N₄+12H₂↑，反應中NH₃作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si₃N₄是優良的新型無機非金屬材料。