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硅單質及其化合物應用范圍很廣,請回答下列問題：

（1）       制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式　                 　。

②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式　　　                　         ；H₂還原SiHCl₃過程中若混0₂，可能引起的后果是                                      。

（2）下列有關說法正確的是           （填字母）。

A.碳化硅化學性質穩定，可用于生產耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.普通玻璃的成分有純堿、石灰石和石英砂，其熔點很高

D.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入鹽酸溶液，振蕩,則反應的離子方程式是　 　                                                           。

工業上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產生的氣體是     ； NaOH溶液的出口為______ (填字母）；精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質，必須精制后才能供電解使用。精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是     （2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產,其副產物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產物有兩種，化學方程式為                          。也可轉化為而循環使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發生反應_: ，達平衡后，H2與SiHCL₃物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產物，理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ mol。

(4)已知1 g陰極產生的氣體在陽極產生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量，則該反應的熱化學方程式為:                                    。

工業上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產生的氣體是     ； NaOH溶液的出口為______ (填字母）；精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質，必須精制后才能供電解使用。精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是     （2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產,其副產物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產物有兩種，化學方程式為                          (2分)。也可轉化為而循環使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發生反應_: ，達平衡后，H2與SiHCL₃物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產物，理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。

(4)已知1 g陰極產生的氣體在陽極產生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量，則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。

工業上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。
(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產生的氣體是    ；NaOH溶液的出口為______(填字母）；精制飽和食鹽水的進口為_____(填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質，必須精制后才能供電解使用。精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是    （2分)(填序號)。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產,其副產物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產物有兩種，化學方程式為                         (2分)。也可轉化為而循環使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發生反應_:，達平衡后，H2與SiHCL₃物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產物，理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。
(4)已知1 g陰極產生的氣體在陽極產生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量，則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。

工業上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1) 右圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產生的氣體是     ； NaOH溶液的出口為______ (填字母）；精制飽和食鹽水的進口為_____ (填字母）；干燥塔中使用的液體干燥劑是____（每空2分）。

(2) 原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質，必須精制后才能供電解使用。精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加人的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl(鹽酸）、③BaCl₂,這3種試劑添加的合理順序是     （2分)(填序號)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產,其副產物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注SiCl₄可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產物有兩種，化學方程式為                          (2分)。也可轉化為而循環使用。一定條件下，在20⁰C恒容密閉容器中發生反應_: ，達平衡后，H2與SiHCL₃物質的量濃度分別為0. 140mol/L和0. 020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產物，理論上需消耗純NaCl的物質的量為_______ (2分)mol。

(4)已知1 g陰極產生的氣體在陽極產生的氣體中完全燃燒時放出92. 3 kj的熱量，則該反應的熱化學方程式為:                                    (2分)。