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2. 除雜:CO2(HCl):通入飽和的NaHCO3溶液而不是飽和Na2CO3溶液. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(1)題每空1分,(1)題3分,其余各2分,共15分)
某校化學課外活動小組利用下面所提供的儀器裝置和藥品制取NaHCO3溶液,設計如下實驗。實驗室提供如下藥品:①2%NaOH溶液②稀HCl③稀H2SO4④飽和KHCO3溶液⑤濃H2SO4⑥CaCO3固體⑦K2CO3粉末⑧純水。提供如下儀器裝置:

請根據題目要求回答下列問題:
(l)請按下表要求,填寫選擇的裝置和藥品

 分項
內容
CO2發生裝置(X)
隨開隨用,隨關隨停
除雜洗氣裝置(Y)
制備產品裝置(Z)
選擇的裝置(填序號)
 
 
C
選擇的藥品(填序號)
 
 

(2)如何檢驗所選擇的發生裝置(X)的氣密性,請寫出主要操作過程:
_____________________________________________________________________________
__________________________________________________________________________。
(3)將裝置按X、Y、Z順序連接并檢查氣密性后,當加入藥品實驗時,X裝置中發生化學反應的離子方程式為________________,Y裝置中除去的雜質為_____________,
(4)常溫下,向Z裝置的NaOH溶液中通入過量氣體,其原因是_________________;通入過量后,Z裝置內的溶液中離子濃度大小順序為:_______________________                                           

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(1)題每空1分,(1)題3分,其余各2分,共15分)

某校化學課外活動小組利用下面所提供的儀器裝置和藥品制取NaHCO3溶液,設計如下實驗。實驗室提供如下藥品:①2%NaOH溶液②稀HCl③稀H2SO4④飽和KHCO3溶液⑤濃H2SO4⑥CaCO3固體⑦K2CO3粉末⑧純水。提供如下儀器裝置:

請根據題目要求回答下列問題:

(l)請按下表要求,填寫選擇的裝置和藥品

  分項

內容

CO2發生裝置(X)

隨開隨用,隨關隨停

除雜洗氣裝置(Y)

制備產品裝置(Z)

選擇的裝置(填序號)

 

 

C

選擇的藥品(填序號)

 

 

(2)如何檢驗所選擇的發生裝置(X)的氣密性,請寫出主要操作過程:

_____________________________________________________________________________

__________________________________________________________________________。

 (3)將裝置按X、Y、Z順序連接并檢查氣密性后,當加入藥品實驗時,X裝置中發生化學反應的離子方程式為________________,Y裝置中除去的雜質為_____________,

(4)常溫下,向Z裝置的NaOH溶液中通入過量氣體,其原因是_________________;通入過量后,Z裝置內的溶液中離子濃度大小順序為:_______________________                                           

 

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(1)題每空1分,(1)題3分,其余各2分,共15分)
某校化學課外活動小組利用下面所提供的儀器裝置和藥品制取NaHCO3溶液,設計如下實驗。實驗室提供如下藥品:①2%NaOH溶液②稀HCl③稀H2SO4④飽和KHCO3溶液⑤濃H2SO4⑥CaCO3固體⑦K2CO3粉末⑧純水。提供如下儀器裝置:

請根據題目要求回答下列問題:
(l)請按下表要求,填寫選擇的裝置和藥品
 分項
內容
CO2發生裝置(X)
隨開隨用,隨關隨停
除雜洗氣裝置(Y)
制備產品裝置(Z)
選擇的裝置(填序號)
 
 
C
選擇的藥品(填序號)
 
 

(2)如何檢驗所選擇的發生裝置(X)的氣密性,請寫出主要操作過程:
_____________________________________________________________________________
__________________________________________________________________________。
(3)將裝置按X、Y、Z順序連接并檢查氣密性后,當加入藥品實驗時,X裝置中發生化學反應的離子方程式為________________,Y裝置中除去的雜質為_____________,
(4)常溫下,向Z裝置的NaOH溶液中通入過量氣體,其原因是_________________;通入過量后,Z裝置內的溶液中離子濃度大小順序為:_______________________                                           

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下列除雜的實驗方法不正確的是(  )

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下列除雜質的操作方法正確的是(  )
A、二氧化硅中有少量的氧化鋁:加過量的燒堿溶液后過濾B、NH4Cl中有少量的I2:通過加熱的方法C、Na2CO3溶液(Na2SO4):加入適量Ba(OH)2溶液,過濾D、CO2氣體(HCl):通過飽和NaHCO3溶液后干燥

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