日日人人_亚洲美女在线视频_av手机在线播放_国产大片aaa_欧美中文日韩_午夜理伦三级

21.硅是一種重要的非金屬材料.制備純硅的主要步驟如下: 300℃ (Ⅰ)高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅 (Ⅱ)粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2 (Ⅲ)SiHCl3與過量H2在1000-1100℃反應制得純硅 已知SiHCl3能與H2O強烈反應.在空氣中易自燃.請回答下列問題: (1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為 . (2)粗硅與HCl反應完全后.經冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4和HCl.提純SiHCl3采用方法的名稱為 . (3)用純SiHCl3與過量純H2反應制備純硅的裝置如下(此裝置氣密性已檢驗.藥品已添加.且熱源及夾持裝置略去): ①裝置B中的試劑號 .它的作用是 和 . ②A和C裝置中都含有分液漏斗.實驗時應先滴入 處分液漏斗內的液體藥品.目的是 . ③裝置C中的燒瓶需要水浴加熱.此處的加熱溫度需高于 ℃.裝置D不能采用普通玻璃管.且需用酒精噴燈加熱.此處的加熱溫度需高于 ℃.實驗時應先加熱 處.原因是 . ④為保證制備純硅實驗的成功.操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性.控制好反應溫度以及控制好 .若該因素不合要求.應怎樣改進?具體的操作是 . 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅:SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO↑.
②粗硅與干燥的Cl2反應制得SiCl4:Si+2C12
  △  
.
 
SiCl4
③SiCl4被過量的H2在1 000~1 100℃時還原制得純硅:SiCl4+2H2
  △  
.
 
Si+4HCl.
某同學從資料中查知:SiCl4的熔點為-7O℃,沸點為57.6℃,且在潮濕的空氣中能發生水解反應.該同學設計了如下制取純硅的實驗裝置(熱源及夾持裝置已略去).請回答下列問題:
(1)使SiCl4從裝置B中逸出與H2充分混合,應采取的措施是
對裝置B水浴加熱
對裝置B水浴加熱

(2)裝置C不能采用普通玻璃管的原因是
在1000-1100℃時普通玻璃管會軟化
在1000-1100℃時普通玻璃管會軟化
,石英的化學式是
SiO2
SiO2

(3)如果從裝置A中快速向裝置B中通入氣體,可能觀察到的現象是
B中液面上方產生少量白霧,液體中有少量白色膠狀物生成
B中液面上方產生少量白霧,液體中有少量白色膠狀物生成

(4)為防止空氣污染,含有SiCl4的尾氣要通入盛有
NaOH
NaOH
溶液的燒杯中,反應的化學方程式為
SiCl4+6NaOH=Na2SiO3+4NaCl+3H2O
SiCl4+6NaOH=Na2SiO3+4NaCl+3H2O

(5)為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度,還應對該裝置進行的改進是
在裝置A與B之間連接一盛有濃硫酸的洗氣瓶(或盛有堿石灰的干燥管).
在裝置A與B之間連接一盛有濃硫酸的洗氣瓶(或盛有堿石灰的干燥管).

查看答案和解析>>

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

③SiHCl3與過量H2在1 000—1 100 ℃反應制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,在空氣中易自燃。

請完成下列問題:

(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為______________________________。

(2)粗硅與HCl反應完全后,經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6 ℃)和HCl(沸點-84.7 ℃),提純SiHCl3采用的方法為_____________________。

(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是_______________________。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是___________________________________。

②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現象是__________________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是___________________________________,裝置D中發生反應的化學方程式為_______________________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及________________________________。

查看答案和解析>>

28.晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2

③SiHCl3與過量H2在1000~1100℃反應制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,在空氣中易自燃。

請回答下列問題:

(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為_______________________________。

(2)粗硅與HCl反應完全后,經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為____________________。

(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是_________________________。

  裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_____________________________________。

②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現象是______________________________________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________,裝置D中發生反應的化學方程式為__________________________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及______________________________________。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質,將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_________________。

a.碘水    b.氯水    c.NaOH溶液    d.KSCN溶液    e.Na2SO3溶液

查看答案和解析>>

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:

Si+3HClSiHCl3+H2

③SiHCl與過量H2在1 000—1 100℃反應制得純硅

已知SiHCl3能與H2O強烈反應,在空氣中易自然。

請回答下列問題:

(1)第①步制備粗硅的化學反應方程式為__________________________________________。

(2)粗硅與HCl反應完全后,經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6℃)和HCl(沸點-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為_______。

(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如圖1-3-8(熱源及夾持裝置略去):

圖1-3-8

①裝置B中的試劑是_______。

裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是_____________________________________________。

②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現象是______________________________________。

裝置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________,裝置D中發生反應的化學方程式為______________________________。

③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及_______。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質,將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是_______。

a.碘水  b.氯水  c.NaOH溶液  d.KSCN溶液  e.Na2SO3溶液

查看答案和解析>>

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;
②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3與過量H2在1 000~1 100 ℃反應制得純硅已知SiHCl3能與H2O強烈反應,在空氣中易自燃。
請回答下列問題:
(1)第①步制備粗硅的化學方程式為_____________________________________________。
(2)粗硅與HCl反應完全后,經冷凝得到的SiHCl3(沸點33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點57.6 ℃)和HCl(沸點-84.7 ℃),提純SiHCl3采用的方法為___________________________。
(3)用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是________。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是________________________________________________________________。
②反應一段時間后,裝置D中觀察到的現象是________,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________,裝置D中發生反應的化學方程式為_____________________________________________________________。
③為保證制備純硅實驗的成功,操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以及___________________________________________________________。

查看答案和解析>>


同步練習冊答案
主站蜘蛛池模板: 久久久久久免费 | 91精品国产乱码久 | 偷拍呻吟高潮91 | 久久99这里只有精品 | 欧美久久a | 色又黄又爽网站www久久 | 在线国产视频 | 日韩av不卡在线播放 | www.久久久.com| 精品99久久| 99精品一级欧美片免费播放 | 国产精品久久国产精品 | 狠狠操操 | 97视频| 伊人网站| 夜夜操com| 成人网18免费网站 | 一级片在线播放 | 中文字幕一区二区在线观看 | 麻豆沈芯语在线观看 | 五月激情综合网 | 男女视频网站 | 日韩av午夜 | 欧洲精品一区二区 | 欧美黄色一区二区 | 日韩高清一区 | 色玖玖 | 污视频网址在线观看 | www.一区| 日韩久久久久 | 久久免费精品 | 久久99精品久久久久久琪琪 | 精品亚洲成a人在线观看 | 国内精品视频一区二区三区 | 成人精品鲁一区一区二区 | 在线黄色av | 日韩美在线观看 | 蜜桃精品视频在线 | 精品久久一二三区 | 求av网址 | 欧美日韩免费一区二区三区 |