Question

（2008?河西區模擬）1961年德國學者約恩孫發表了一篇論文，介紹了他用電子束的一系列衍射和干涉實驗．其中他做的雙縫干涉實驗與托馬斯?楊用可見光做的雙縫干涉實驗所得的圖樣基本相同，這是對德布羅意的質波理論的又一次實驗驗證．根據德布羅意理論，電子也具有波粒二象性，其德布羅意波長λ=h/ρ，其中h為普朗克常量，p為電子的動量．約恩孫實驗時用50kV電壓加速電子束，然后垂直射到間距為毫米級的雙縫上，在與雙縫距離為35cm的屏上得到了干涉條紋，但條紋間距很小，下面所說的方法中，哪些方法一定能使條紋間距變大（　　）

A．降低加速電子的電壓，同時加大雙縫間的距離

B．降低加速電子的電壓，同時減小雙縫間的距離

C．加大雙縫間的距離，同時使屏靠近雙縫

D．減小雙縫間的距離，同時使屏靠近雙縫

Answer 1

分析：根據雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ判斷如何增大干涉條紋的間距．

解答：解：光的干涉現象中，條紋間距公式△x=

L

d

λ，即干涉條紋間距與入射光的波長成正比，與雙縫到屏的距離成正比，與雙縫間距離成反比．
由題意知，降低加速電壓，電子的動量減小，其波長增大．
故選B．

點評：解決本題的關鍵掌握雙縫干涉條紋的間距公式△x=

L

d

λ．