Question

【題目】雙縫干涉實驗裝置如圖所示，雙縫間距離為d，雙縫到像屏間距為，調整實驗裝置使像屏上見到清晰的干涉條紋，關于該干涉條紋及改變條件后干涉條紋的變化情況，下列敘述中正確的是

A.屏上所有亮線都是從雙縫出來的兩列光波的波峰與波峰疊加形成的，而所有暗線是波谷與波谷疊加形成的

B.若將像屏向右或向左平移一小段距離，屏上仍有清晰的干涉條紋

C.若將雙縫間距d減小，像屏上兩相鄰明條紋間距變小

D.若改用頻率較大的色光進行實驗，在其他條件不變的前提下，像屏上兩相鄰暗條紋間距變大

Answer 1

【答案】B

【解析】

A．干涉條紋間的暗線是由于兩反射光波波峰與波谷的疊加形成的，兩反射光波波谷與波谷的疊加形成亮紋，故A錯誤；

B．將光屏向左平移一小段距離，或右移一小段距離，屏上都仍有清晰的干涉條紋，故B正確；

C．根據雙縫干涉條紋的間距公式，知d減小，相鄰明條紋的距離增大，故C錯誤；

D．若用頻率較大的色光進行實驗，即波長變短，其它條件不變的前提下，根據雙縫干涉條紋的間距公式，可知，光屏上相鄰暗條紋間距減小，故D錯誤。

故選B。