Question

已知水稻的光效（光能利用效率）由一對基因（A、a）控制，抗病性由另一對基因（B、b）控制，兩對基因獨立遺傳。現有一純合低光效抗病水稻（甲），經輻射處理后得到水稻（乙），乙自交，F₁中低光效抗病水稻與高光效抗病水稻的比例接近3∶1，請回答下列問題：
（1）甲的基因型為________________________，輻射處理使控制___________性狀的基因發生了突變，突變后控制該性狀的基因型為_________________。輻射處理的目的是提高__________________。
（2）用乙培育高光效抗病水稻新品種，應采用的育種方法是_____________（雜交育種、單倍體育種），才能提高子代中高光效抗病水稻個體比例，其比例為______。
（3）若要使水稻的高光效基因在玉米植株中表達，從理論上講可采用的育種方法是___________________和_______________；若該高光效基因在玉米植株中成功表達，且表達水平與水稻相同，則在高溫條件下其光能利用效率應________（高于、等于、低于）高光效水稻，原因是__________________________________。

Answer 1

（1）AABB或AAbb   光效    Aa  基因突變頻率
（2）單倍體育種    1/2
（3）植物體細胞雜交   基因工程（可顛倒）   高于   玉米是C₄植物，在高溫條件下能利用低濃度CO₂

解析