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現有下列四種物質：① SiO₂、②Si、③ Na₂CO₃、④ Al₂(SO₄)₃。其中，俗稱為“蘇打”的是    （填序號，下同），作半導體材料的是    ，向其溶液中，逐滴加入氫氧化鈉溶液，先產生白色沉淀，后沉淀溶解的是    ，為石英主要成份的是    。

實驗室中常用反應：MnO₂ + 4HCl(濃)  Cl₂↑+ MnCl₂ + 2 H₂O 制取氯氣。在該反應中，作為氧化劑的物質是     （填化學式），作為還原劑的物質是     （填化學式）；若反應中生成了1 mol Cl₂，則需消耗     mol HCl。

將1.12 g鐵粉加入25 mL 2 mol/L的氯化鐵溶液中，充分反應后，其結果是

A．鐵有剩余，溶液呈淺綠色，Cl^－濃度基本不變

B．往溶液中滴入無色KSCN溶液，顯紅色

C．Fe^2＋和Fe^3＋的物質的量之比為51

D．氧化產物與還原產物的物質的量之比為25

將物質X逐漸加入(或通入)Y溶液中，生成沉淀的量與加入X的物質的量關系如圖所示，符合圖示情況的是                                                                                

將4 g鋁鐵合金粉末溶于足量鹽酸中，加入過量氫氧化鈉溶液，過濾后向濾液中通入足量二氧化碳，再將沉淀濾出，經洗滌、干燥、灼燒后得到固體粉末的質量仍為4 g，原合金中鐵的質量分數最接近　

A．30% 　　　　　　　　　　　　 B．47%

C．53% 　　　　　　　　　　　　 D．70%

甲、乙、丙、丁分別是Al₂(SO₄)₃、FeSO₄、NaOH、BaCl₂四種物質中的一種，若將丁溶液滴入乙溶液中，發現有白色沉淀生成，繼續滴加沉淀消失，丁溶液滴入甲溶液時，無明顯現象發生，據此可推斷丙物質是                                         

A．Al₂(SO₄)₃                     B．NaOH

C．BaCl₂                           D．FeSO₄

下列反應的離子方程式正確的是　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

A． FeCl₃溶液腐蝕印刷電路板：Fe³⁺＋Cu=== Fe^2＋＋Cu²⁺

B．用小蘇打治療胃酸過多：HCO＋H^＋===CO₂↑＋H₂O

C．實驗室用濃鹽酸與MnO₂反應制Cl₂：

MnO₂＋2H^＋＋2Cl^－Cl₂↑＋Mn^2＋＋H₂O

D．氨氣通入碳酸氫鈉溶液中：NH₃ +H⁺ = NH₄⁺

向一定量的Fe、FeO、Fe₂O₃的混合物中，加入100mL l moL／L的鹽酸；恰好使混合物完全溶解并放出標準狀況下224mL氣體。向所得溶液中加入KSCN溶液無血紅色出現，若用足量的CO在高溫下還原等質量的此混合物，能得到單質鐵的質量為 

    A．11．2g    B．2．8g    C．5．6g    D．無法計算

下列各組物質中，X是主體物質，Y是少量雜質，Z是為除去雜質所要加入的試劑，其中所加試劑正確的一組是                                                                              

下列各組物質中，不是按b→c→a(“→”表示一步完成)關系相互轉化的是