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2.寫出下面反應的化學方程式
(1)過氧化鈉與水的反應2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2
(2)氯氣與水的反應Cl2+H2O?HCl+HClO  
(3)鈉在空氣中燃燒2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2

分析 (1)過氧化鈉與水反應生成NaOH和氧氣;
(2)氯氣與水反應生成HCl、HClO;
(3)鈉在空氣中燃燒生成過氧化鈉.

解答 解:(1)過氧化鈉與水反應生成NaOH和氧氣,該反應為2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑,故答案為:2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑;
(2)氯氣與水反應生成HCl、HClO,化學反應方程式為Cl2+H2O?HCl+HClO,故答案為:Cl2+H2O?HCl+HClO;                                           
(3)鈉在空氣中燃燒生成過氧化鈉,反應的方程式為2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2,故答案為:2Na+O2$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$Na2O2

點評 本題考查化學方程式的書寫,注意把握書寫方法和注意事項,題目較簡單.

練習冊系列答案
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14.圖為化學實驗中常用的噴泉實驗裝置.在燒瓶中充滿干燥氣體,膠頭滴管及燒杯中分別盛有液體.下列組合中不可能形成噴泉的是( 。
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11.硅是帶來人類文明的重要元素之一,從傳統材料到信息材料的發展過程中創造了一個有一個奇跡.
(1)新型陶瓷Si3N4的熔點高、硬度大、化學性質穩定.工業上可以采用化學氣相沉積法,在H2的保護下,使SiCl4與N2反應生成Si3N4沉積在石墨表面,寫出該反應的化學方程式3SiCl4+2N2+6H2$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si3N4+12HCl.
(2)一種工業用硅(含少量鉀、鈉、鐵、銅的氧化物),已知硅的熔點是1420℃,高溫下氧氣及水蒸氣能明顯腐蝕氮化硅.一種合成氮化硅的工藝主要流程如下:

①凈化N2和H2時,銅屑的作用是除去原料氣中的氧氣;硅膠的作用是除去生成的水蒸氣.
②在氮化爐中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s)△H=-727.5kJ/mol,開始時為什么要嚴格控制氮氣的流速以控制溫度該反應為放熱反應,防止局部過熱,導致硅熔化熔合成團,阻礙與N2的接觸;體系中要通入適量的氫氣是為了將體系中的氧氣轉化為水蒸氣,而易被除去(或將整個體系中空氣排盡).
③X可能是硝酸(選填:“鹽酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氫氟酸”).
(3)工業上可以通過如圖所示的流程制取純硅:

①整個制備過程必須嚴格控制無水無氧.SiHCl3遇水劇烈反應,寫出該反應的化學方程式3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl.
②假設每一輪次制備1mol純硅,且生產過程中硅元素沒有損失,反應Ⅰ中HCl的利用率為90%,反應Ⅱ中H2的利用率為93.75%.則在第二輪次的生產中,補充投入HCl 和H2的物質的量之比是5:1.

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①實驗前關閉旋塞K,先通氮氣排凈裝置中的空氣,其目的是防止CO與空氣混合加熱爆炸.
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