Question

【題目】由二氧化硅制高純硅的流程如下，下列判斷中錯誤的是(　　)

A. SiHCl3摩爾質(zhì)量為135.5 g B. H2和HCl均可循環(huán)利用

C. SiO2是一種堅硬難熔的固體 D. ①②③均屬于氧化還原反應(yīng)

Answer 1

【答案】A

【解析】

A．SiHCl3摩爾質(zhì)量為135.5g/mol，故A錯誤；

B．由生產(chǎn)高純硅的流程示意圖可知，H2和HCl既是反應(yīng)物，又是生成物，所以可重復利用的物質(zhì)是H2和HCl，故B正確；

C．SiO2是原子晶體，硬度大、熔點高，故C正確；

D．反應(yīng)①為SiO2+2CSi+2CO↑，反應(yīng)②Si（粗）+3HClSiHCl3+H2，反應(yīng)③SiHCl3+H2Si（粗）+3HCl，三個方程式中元素的化合價均發(fā)生變化，均屬于氧化還原反應(yīng)，故D正確；

答案選A。