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10.有A、B、C、D、E五種短周期元素,它們的核電荷數(shù)按C、A、B、D、E的順序增大.C、D都能分別與A按原子個(gè)數(shù)比為1:1或2:1形成化合物;CB可與EA2反應(yīng)生成C2A和氣態(tài)物質(zhì)EB4;E的M層電子數(shù)是K層電子數(shù)的2倍.
(1)寫出下列元素的名稱:A氧,B氟,E硅.
(2)畫出E的原子結(jié)構(gòu)示意圖
(3)比較EA2與EB4的熔點(diǎn)高低(填化學(xué)式)SiO2>SiF4
(4)A的氫化物的沸點(diǎn)與同族下一周期元素的氫化物相比,A的氫化物的沸點(diǎn)高(填“高”或“低”),原因是水分子之間形成氫鍵,而H2S中不存在氫鍵.
(5)寫出電子式D2A2,EB4

分析 A、B、C、D、E五種短周期元素,核電荷數(shù)按C、A、B、D、E的順序增大,E的M層電子數(shù)是K層電子數(shù)的2倍,K層容納2個(gè)電子,M層有4個(gè)電子,則E為Si元素;C、D都能分別與A按原子個(gè)數(shù)比為1:1或2:1形成化合物,則C為H元素,A為O元素,D為Na元素;CB可與EA2反應(yīng)生成C2A和氣態(tài)物質(zhì)EB4,該反應(yīng)為4HF+SiO2═2H2O+SiF4↑,則B為F元素,據(jù)此解答.

解答 解:A、B、C、D、E五種短周期元素,核電荷數(shù)按C、A、B、D、E的順序增大,E的M層電子數(shù)是K層電子數(shù)的2倍,K層容納2個(gè)電子,M層有4個(gè)電子,則E為Si元素;C、D都能分別與A按原子個(gè)數(shù)比為1:1或2:1形成化合物,則C為H元素,A為O元素,D為Na元素;CB可與EA2反應(yīng)生成C2A和氣態(tài)物質(zhì)EB4,該反應(yīng)為4HF+SiO2═2H2O+SiF4↑,則B為F元素.
(1)由上述分析可知,A為氧、B為氟、E為硅,
故答案為:氧;氟;硅;
(2)E為Si元素,質(zhì)子數(shù)為14,最外層電子數(shù)為4,原子結(jié)構(gòu)示意圖為
故答案為:
(3)EA2是SiO2,EB4是SiF4,SiO2為原子晶體,熔沸點(diǎn)較高,SiF4為分子晶體,熔沸點(diǎn)較低,沸點(diǎn)SiO2>SiF4
故答案為:SiO2;SiF4
(4)A為O元素,對(duì)應(yīng)氫化物為H2O,與A同族下一周期元素的氫化物為H2S,由于O元素的電負(fù)性很強(qiáng),水分子之間形成氫鍵,而H2S中不存在氫鍵,所以水的沸點(diǎn)比H2S的沸點(diǎn)高,
故答案為:高;水分子之間形成氫鍵,而H2S中不存在氫鍵;
(5)D2A2為Na2O2,由鈉離子與過氧根離子構(gòu)成,電子式為
EB4為SiF4,硅原子與氟原子之間形成1對(duì)共用電子對(duì),電子式為
故答案為:

點(diǎn)評(píng) 本題考查結(jié)構(gòu)性質(zhì)位置關(guān)系綜合應(yīng)用,結(jié)合常見化合物的結(jié)構(gòu)推斷元素是解答本題的關(guān)鍵,注意二氧化硅的特性.

練習(xí)冊(cè)系列答案
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C.CH4+Cl2$\stackrel{光照}{→}$CH3Cl+HClD.2NaCl+H2SO4(濃)=Na2SO4+2HCl↑

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18.下列晶體中既有離子鍵又有非極性鍵的是(  )
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5.下列物質(zhì)的分類合理的是(  )
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C.氯化硼是一種離子晶體
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2.下列化學(xué)用語表達(dá)正確的是(  )
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20.短周期元素X、Y、Z、W、Q在元素周期表中的相對(duì)位置如圖所示.

請(qǐng)回答下列問題:
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(6)Y、Q的單質(zhì)或兩元素之間形成的化合物可作水消毒劑的有O3,Cl2(寫出其中兩種物質(zhì)的化學(xué)式).

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同步練習(xí)冊(cè)答案
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