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(08年廣東卷)氮化鋁(AlN,Al和N的相對原子質量分別為27和14)廣泛應用于電子、陶瓷等工業領域。在一定條件下,AlN可通過反應Al2O3+N2+3C2AlN+3CO合成。下列敘述正確的是()

       A.上述反應中,N2是還原劑,Al2O3是氧化劑

       B.上述反應中,每生成1molAlN需轉移3mol電子

       C.AlN中氮元素的化合價為+3

       D.AlN的摩爾質量為41g

答案:B

解析:該反應中 N2降價為氧化劑,C升價為還原劑,每生成1molAlN轉移3mol電子,AlN中Al為+3價,N為-3價。D中摩爾質量的單位為g/mol。

對應考點:氧化還原反應的本質。

易錯點:要理解氧化還原反應的過程及其電子轉移的方向。

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

(08年廣東卷)硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:

制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式____;H2還原SihCl3過程中若混02,可能引起的后果是______     。

(2)下列有頭硅材料的詳法正確的是_____    (填字母)。

A.碳化硅化學性質穩定,可用于生產耐高溫水混

B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點很高

D.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

E.鹽酸可以和硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現象并給予解釋_____。

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