【題目】NA為阿伏加德羅常數，下列物質所含分子數最少的是（ ）
A. 含NA個氫分子的氫氣 B. 標準狀況下22.4L氨氣
C. 8g甲烷（甲烷的摩爾質量為16g·mol-1) D. 0.8mol二氧化碳
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【題目】（多選）在標準狀況下，m g氣體A與n g氣體B的分子數相同，下列說法中不正確的是（ ）
A.兩種氣體A與B的相對分子質量之比為m：n
B.同質量氣體A與B的分子數之比為m：n
C.同溫同壓下，A，B兩氣體的密度之比為n：m
D.相同狀況下，同體積A，B兩氣體的質量之比為m：n
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【題目】向容積為2 L的密閉容器中充人2 mol A氣體和1 mol B氣體，在一定條件下發生如下反應：2A(g)＋B(g) 
3C(g)；經2 s后達到平衡，測得C氣體的濃度為0.6 mol·L－1。下列說法中正確的是
①用物質A表示該反應的平均反應速率為0.2 mol·L－1·s－1
②用物質B表示該反應的平均反應速率為0.2 mol·L－1·s－1
③平衡時物質A與B的轉化率相等
④平衡時物質B的濃度為0.2 mol·L－1
A. ①②③ B. ①③ C. ②④ D. ①④
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【題目】中和滴定中用已知濃度的稀鹽酸滴定未知濃度的稀氨水，計算式與滴定氫氧化鈉溶液類似：c1V1=c2V2，則（ ）
A.終點溶液偏堿性
B.終點溶液中c(NH4+)=c(Cl-)
C.終點溶液中氨過量
D.合適的指示劑是甲基橙而非酚酞
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【題目】某工廠用軟錳礦(主要為MnO2，含雜質Al2O3和閃鋅礦(主要為ZnS，含雜質FeS) 共同生產干電池的原料Zn和MnO2，同時獲得一些副產品，工藝流程如下：
已知：硫酸浸取液的主要成分為ZnSO4、MnSO4、Fe2(SO4)3、Al2(SO4)3
（1）“浸取”時發生的反應中，還原產物為_______________ (填化學式)。
（2）①“凈化除雜”時，加入的物質X可能為______________(填選項字母)。
A.MnCO3 B. Zn2(OH)2CO3 C.NaOH D. KOH
②相關離子開始沉淀和完全沉淀的pH如下表所示，加入X后，溶液pH應調整到________。
離子 | 開始沉淀pH | 完全沉淀pH |
Fe3+ | 2.3 | 3.2 |
A13+ | 4.2 | 5.4 |
Zn2+ | 7.2 | 8.0 |
Mn2+ | 8.3 | 9.8 |
（3）只用一種試劑，即可從 “灼燒”所得的Fe2O3和Al2O3混合物中分離得到Fe2O3。該反應
的離子方程式為____________________________________。
（4）“電解”時，發生反應的化學方程式為____________________________________。
（5）從Na2SO4溶液中得到芒硝晶體（Na2SO4 10H2O），需要進行的實驗操作有______、_____、過濾、洗滌、干燥等.
（6）Zn和MnO2的傳統生產工藝主要經歷礦石焙燒、硫酸浸出、電解等過程，與傳統工藝相比，該工藝流程的優點為________________________________。
（7）用生產的Zn和MnO2制成干電池，在堿性條件下工作時有MnOOH生成，則該電池正極的電極反應式為________________________________。
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【題目】反應mA（固）+nB（氣）
pC（氣）△H<O在一定溫度下B的體積分數（B％）與壓強變化的關系如圖所示，下列敘述中正確的是
①m+n＞P；②x點表示該反應的正反應速率大于逆反應速率；
③n＞p；④x點比y點時的反應速率慢。
A. 只有① B. 只有②④ C. 只有①②④ D. 只有①和③
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【題目】M、Q、R、X、Y為原子序數依次增大的短周期主族元素。M原子核外電子有6種運動狀態，R和X同主族。Z、W是第四周期過渡元素，Z2+的外圍電子數是W+的外圍電子數的一半，W+沒有未成對電子。請回答下列問題：
(1)W+的外圍電子排布圖為__________。
(2)M、Q和R第一電離能由小到大的順序是________(用元素符號表示）。
(3)Q的氣態氫化物極易溶于R的常見氫化物，其原因有__________________。該濃液顯堿性，請用結構表示出兩者的主要結合方式_________。
(4)在上述元素形成的微粒中，和MR2互為等電子體的有________(分子和離子各寫一種)，Q與Y形成的QY3分子的空間構型是__________。
(5)MR2晶體和W晶體的晶胞如圖表示（●表示一個MR2分子或一個W原子）。
①在MR2晶體中，最近的分子間距為a㎝，則晶體密度為____g/㎝3(阿伏加德羅常數的值用NA表示，不必計算結果)。
②W晶體中A、B、C、D圍成正四面體空隙，該晶胞中正四面體空隙的數目為_____。某種Z的硫化物晶體中S2-以W晶體中W原子的方式堆積，Z2+填充在正四面體空隙中，則Z2+的填充率(填充Z2+的正四面體空隙數和正四面體空隙總數之比)為_______。
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