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14.乙烯在不同的條件下可被氧化成不同的產物.如圖所示:

已知A、D都能與金屬鈉反應,1mol有機物產生1mol氣體,D還能與NaHCO3作用產生氣體,C可以發生銀鏡反應,B中所有氫原子都有相同的化學環境,請回答下列問題:
(1)A的名稱為乙二醇
(2)則A、B的結構簡式分別為HOCH2CH2OH、、
(3)由乙烯轉化為D的反應類型為氧化反應
(4)寫出C發生銀鏡反應的化學反應方程式CH3CHO+Ag(NH32OH$\stackrel{水浴加熱}{→}$CH3COONH4+H2O+2Ag+3NH3↑.

分析 A、D都能與金屬鈉反應,1mol有機物產生1mol氣體,說明A、D中有兩個羧基或羥基,D還能與NaHCO3作用產生氣體,說明D中有羧基,根據A和D的分子式可知,A為HOCH2CH2OH,D為HOCH2COOH,C可以發生銀鏡反應,說明C中有醛基,所以C為CH3CHO,B中所有氫原子都有相同的化學環境,則B為,據此答題;

解答 解:A、D都能與金屬鈉反應,1mol有機物產生1mol氣體,說明A、D中有兩個羧基或羥基,D還能與NaHCO3作用產生氣體,說明D中有羧基,根據A和D的分子式可知,A為HOCH2CH2OH,D為HOCH2COOH,C可以發生銀鏡反應,說明C中有醛基,所以C為CH3CHO,B中所有氫原子都有相同的化學環境,則B為
(1)A為HOCH2CH2OH,A的名稱為 乙二醇,
故答案為:乙二醇; 
(2)根據上面的分析可知,A、B的結構簡式分別為 HOCH2CH2OH、
故答案為:HOCH2CH2OH、
(3)比較乙烯與HOCH2COOH的結構可知,HOCH2COOH中得到了三個氧原子,所以由乙烯轉化為HOCH2COOH的反應類型為氧化反應,
故答案為:氧化反應;
(4)C為CH3CHO,C發生銀鏡反應的化學反應方程式CH3CHO+Ag(NH32OH$\stackrel{水浴加熱}{→}$ CH3COONH4+H2O+2Ag+3NH3↑,
故答案為:CH3CHO+Ag(NH32OH$\stackrel{水浴加熱}{→}$ CH3COONH4+H2O+2Ag+3NH3↑.

點評 本題考查有機物的推斷,難度中等,注意根據有機物的分子式、及性質進行推斷,較好的考查學生的分析推理能力,是對有機化學知識的綜合考查,是熱點題型.

練習冊系列答案
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A.NaClB.CH3COONaC.FeC13D.NaHCO3

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5.已知NaOH(aq)+HCl(aq)═NaCl(aq)+H2O(l);△H=-57.3kJ/mol,下列說法中正確的是(  )
A.濃硫酸和NaOH溶液反應,生成 l mol水時放熱57.3 kJ
B.含l molH2SO4的稀硫酸與足量稀NaOH溶液中和后,放熱為57.3 kJ
C.1L 0.l mol/L CH3COOH與1L 0.l mol/L NaOH溶液反應后放熱為5.73 kJ
D.1L 0.l mol/L HNO3與 1L 0.l mol/L NaOH溶液反應后放熱為 5.73 kJ

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2.下列敘述正確的是(  )
A.常溫常壓下,1.5 mol N2的體積約為33.6 L
B.NaOH的摩爾質量是40 g
C.150mL 1 mol/LNaCl溶液與100mL 1 mol/LAlCl3溶液中的n(Cl-)相等
D.同溫同壓下,相同體積的C12和SO2氣體所含的分子數一定相同

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9.在中和滴定實驗中用到的儀器,只需用蒸餾水洗凈不能用待盛放液體潤洗的是(  )
A.酸式滴定管B.堿式滴定管C.移液管D.錐形瓶

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19.晶體硼的結構單元是正二十面體,每個單元中有12個硼原子(如圖).若其中有兩個原子為10B,其余為11B,則該結構單元結構類型有(  )
A.1種B.3種C.5種D.4種

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6.汽車排氣管內安裝的催化轉化器,可使尾氣中主要污染物(NO和CO)轉化為無毒的大氣循環物質.已知:
N2(g)+O2(g)=2NO(g)△H=+180.5kJ•mol-1
2C(s)+O2(g)=2CO(g)△H=-221.0kJ•mol-1
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則該反應的熱化學方程式為:2NO(g)+2CO(g)=N2(g)+2CO2(g)△H=-746.5kJ/mol.

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3.近年來,我國的電子工業迅速發展,造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放.蝕刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、傳統的FeCl3型(HCl-FeCl3)等方法.蝕刻廢液中含有大量的Cu2+,廢液的回收利用可減少銅資源的流失.幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下:

(1)FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑,可回收銅并使蝕刻液再生.發生的主要化學反應有:Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑,還有Fe+2Fe3+=3Fe2+、2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-.(用離子方程式表示).
(2)HCl-H2O2型蝕刻液在蝕刻電路板過程中發生的化學反應用化學方程式可表示為:Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O.
(3)處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度,當溫度高于80℃時,產品顏色發暗,其原因可能是溫度高會使產物部分分解產生黑色的氧化銅,導致產品顏色發暗.

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13.溴苯是一種重要的化工原料,實驗室合成溴苯的裝置示意圖及有關數據如圖:
溴苯
密度/g•cm-30.883.101.50
沸點/℃8059156
水中溶解度微溶微溶微溶

回答下列問題:
(1)在a中加入12mL無水苯和少量鐵屑.在b中加入8.0mL液溴,向a中滴入幾滴溴,有白霧產生,是因為生成了HBr氣體,繼續滴加至液溴滴完.裝置d的作用是吸收HBr和Br2
其中發生反應的離子方程式是H++OH-=H2O等(寫出一個即可).
(2)上述裝置圖中,c的名稱是冷凝管.
(3)液溴滴完后,經過下列步驟分離提純:
①向a中加入10mL水,然后過濾除去未反應的鐵屑;
②濾液依次用10mL水、8mL10%的NaOH溶液、10mL水洗滌.NaOH溶液洗滌的作用是除去HBr和未反應的Br2
③向分出的粗溴苯中加入少量的無水氯化鈣,靜置、過濾.加入氯化鈣的目的是干燥.
(4)經以上分離操作后,粗溴苯中還含有的主要雜質為苯,要進一步提純,還要進行的操作是C(填字母序號).
A.重結晶     B.過濾      C.蒸餾      D.萃取
(5)該實驗中,a的容積最適合的是B(填字母序號).
A.25mL      B.50mL     C.250mL     D.500mL.
(6)在該實驗中最終制得的純凈溴苯質量為15.7g,則該實驗中溴苯的產率為73.85%%(精確到小數點后一位).

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