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SiO2在高溫下可發生反應：SiO2+3C═SiC+2CO↑，該反應中氧化劑與還原劑的質量比是


  1. A.
    1：2
  2. B.
    2：1
  3. C.
    1：3
  4. D.
    1：1
A
分析：SiO2+3C═SiC+2CO↑中，碳元素的化合價既升高又降低，其它元素的化合價都沒有變化，以此來解答．
解答：因SiO2+3C═SiC+2CO↑中，碳元素的化合價既升高又降低，
則碳既是氧化劑又是還原劑，
碳由0降低為-4價時，作氧化劑，
碳由0升高到+2價時，作還原劑，
由方程式中的碳原子守恒，
則氧化劑與還原劑的物質的量之比為1：2，
即該反應中氧化劑與還原劑的質量比是1：2，
故選A．
點評：本題考查氧化劑與還原劑的質量比，明確碳既是氧化劑又是還原劑，則物質的量之比等于質量比即可解答，準確判斷元素的化合價變化是解答的關鍵．
練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：

（2011?泰州一模）近年來高錳酸鉀在飲用水和工業污水處理領域的消費增長較快．實驗室可用軟錳礦（主要成分MnO2）為原料制備高錳酸鉀．其部分流程如下：

（1）實驗中采用鐵坩堝而不用瓷坩堝的原因是
在高溫下，瓷坩堝可以和KOH發生反應SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蝕瓷坩堝
在高溫下，瓷坩堝可以和KOH發生反應SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蝕瓷坩堝
；
（2）KOH、KClO3、MnO2共熔制得綠色K2MnO4的化學方程式
KClO3+3MnO2+6KOH
 高溫 
.
 
KCl+3K2MnO4+3H2O，
KClO3+3MnO2+6KOH
 高溫 
.
 
KCl+3K2MnO4+3H2O，
；
（3）通入CO2，可使MnO42-發生歧化反應，生成MnO4-及MnO2，則K2MnO4完成反應時，轉化為KMnO4的百分率約
66.7%
66.7%
（精確至0.1%）
（4）若通入CO2太多，則在加熱濃縮時，會有
KHCO3
KHCO3
晶體和KMnO4晶體一起析出．
（5）在加熱、濃縮、烘干的過程中溫度不宜過高，其原因是
溫度過高會導致KMnO4分解
溫度過高會導致KMnO4分解
；加熱時用玻璃棒不停攪拌溶液的目的是
受熱均勻，有利于蒸發溶劑
受熱均勻，有利于蒸發溶劑
．

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科目：高中化學 來源：2014屆浙江省杭州市七校高三上學期期中聯考化學試卷（解析版） 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應中氧化劑為                     。

（3）本校化學興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有lgNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

 

結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發生氧化還原反應生成H2；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優良的新型無機非金屬材料。

 

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