【題目】下列電子排布式表示的基態原子中，第一電離能最小的是
A.ns2np3B.ns2np5C.ns2np4D.ns2np6
名校課堂系列答案科目：高中化學 來源： 題型：
【題目】為了檢驗某鹵代烴（R﹣X）中的X元素，在下列實驗操作中：①加熱②加入硝酸銀溶液③取少量鹵代烴④加入稀硝酸溶液酸化⑤加入氫氧化鈉溶液⑥冷卻，所選擇的正確的操作順序是（ ）
A.③⑤④②
B.③⑤①④②
C.③⑤①⑥②
D.③⑤①⑥④②
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【題目】現代建筑的門窗框架常用電鍍加工成的古銅色硬鋁制造．取硬鋁樣品進行如圖所示的實驗（每一步試劑均過量），由此可推知，硬鋁的組成為（ ） 
A.Al、Cu、Mg、Si
B.Al、Mg、Si、Zn
C.Al、Fe、C，Cu
D.Al、Si、Zn、Na
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【題目】工業中采用適當的催化劑利用反應CO（g）+2H2（g）═CH3OH（g）來制取甲醇．
維持體系的壓強一定，溫度為T時，在體積為2.0L的封閉容器內充入0.6mol CO和0，.4mol H2 ， 達到平衡時含有0.15mol CH3OH（g），則該反應平衡常數K=（保留兩位小數），此時向容器中再通入0.7mol CO氣體，則此平衡將（填“正向”、“不”或“逆向”）移動．
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【題目】Ⅰ．如圖所示為常見玻璃儀器的部分結構：
（1）請寫出所列儀器的名稱： A______，B_______，C_______；
（2）儀器 B 上標記有________（填序號）；
①質量 ②溫度 ③刻度線 ④濃度 ⑤容積
（3）儀器 B 使用前必須__________________。
II．已知某“84 消毒液”瓶體部分標簽如圖所示，該“84 消毒液”通常稀釋 100 倍(體積之比)后使用。請回答下列問題：
（1）該“84 消毒液”的物質的量濃度約為________mol·L－1。（保留兩位有效數字）
（2）某同學取 100 mL 該“84 消毒液”，稀釋后用于消毒，稀釋后的溶液中 c(Na＋)＝________ mol·L－1。
（3）該同學參閱該“84 消毒液”的配方，欲用 NaClO 固體配制 250 mL含 NaClO 質量分數為 25%的消毒液。下列說法不正確的是________(填序號)。
a．如圖所示的儀器中，有三種是不需要的，還需要其它玻璃儀器
b．容量瓶用蒸餾水洗凈后，應烘干后才能用于溶液配制
c．配制過程中，未用蒸餾水洗滌燒杯和玻璃棒可能導致結果偏低
（4）“84 消毒液”與稀硫酸混合使用可增強消毒能力，某消毒小組人員用 98%(密度為1.84g·cm－3)的濃硫酸配制2 000 mL 2.3 mol·L－1 的稀硫酸用于增強“84 消毒液”的消毒能力。需用濃硫酸的體積為________mL。
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【題目】X、Y、Z、R、W均為周期表中前四周期的元素，其原子序數依次增大；X2﹣和Y+有相同的核外電子排布；Z的氫化物的沸點比其上一周期同族元素氫化物的沸點低；R的基態原子在前四周期元素的基態原子中單電子數最多；W為金屬元素，X與W形成的某種化合物與Z的氫化物的濃溶液加熱時反應可用于實驗室制取Z的氣態單質．回答下列問題（相關回答均用元素符號表示）：
（1）R的基態原子的核外電子排布式是 ．
（2）Z的氫化物的沸點比其上一周期同族元素氫化物的沸點低的原因是 ．
（3）X與Z中電負性較大的是 ． Z的某種含氧酸鹽常用于實驗室中X的單質的制取，此酸根離子的空間構型是 ， 此離子中含有的化學鍵類型是 ， X﹣Z﹣X的鍵角109.5°．（填“＞”“=”或“＜”）（提示：孤電子對之間的斥力＞孤電子對與成鍵電子對之間的斥力＞成鍵電子對之間的斥力）．
（4）X與Y形成的化合物Y2X的晶胞如圖．其中X離子的配位數為 ， 以相距一個X離子最近的所有Y離子為頂點構成的幾何體為 ． 該化合物與MgO相比，熔點較高的是 ． 
（5）已知該化合物的晶胞邊長為a pm，則該化合物的密度為gcm﹣3 ． （只要求列算式，不必計算出數值，阿伏加德羅常數的數值為NA）
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【題目】下列有關物質的性質與用途具有對應關系的是
A.SO2水溶液呈酸性，可用于漂白紙漿B.晶體硅熔點高，可制半導體材料
C.Al(OH)3呈弱堿性，可用于治療胃酸過多D.H2O2具有還原性，可用于消毒殺菌
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【題目】油畫所用顏料含有某種白色鉛化物，此顏料置于空氣中長時間后就會變成黑色PbS，從而使油畫的色彩變暗，若用雙氧水H2O2來清洗，則可將PbS變成PbSO4，從而使油畫復原。上述清洗反應的化學方程式為 PbS+ 4H2O2 = PbSO4 + 4M（已配平）
（1）生成物M的化學式為_________________________
（2）在此反應中，PbS作 _____________劑，H2O2作 _____________劑
（3）若發生轉移的電子數目2mol時，參加反應的H2O2的質量為 ___________ 。
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