Question

【題目】硅是一種重要的半導(dǎo)體材料，應(yīng)用范圍廣，三氯苯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

（1）硅屬于_______(填“金屬”或“非金屬”)元素；

（2）上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為____________。

（3）如果還原SiHCl3過程中混入O2，可能引起的后果是___________。

（4）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是_____________。

Answer 1

【答案】（1）非金屬；（2）H2+SiHCl3Si+3HCl（3）爆炸；（4）HCl。

【解析】

試題分析：（1）硅的名稱中帶有“石”字旁，屬于非金屬，故答案為：非金屬；

（2）上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiHCl+H2Si+3HCl，故答案為： SiHCl+H2Si+3HCl；

（3）如果還原SiHCl過程中混入O2，會(huì)形成氫氣和氧氣混合氣體，點(diǎn)燃時(shí)易引起爆炸，故答案為：爆炸；

（4）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是HCl，故答案為： HCl。