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光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

(1)請指出A中含有的官能團_________(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變為B，發生了_________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。

解析：A經光照固化轉變為B的過程是A分子中碳碳雙鍵加成的過程。A、B都可以看作聚酯高分子化合物，水解時酯基中碳氧鍵發生斷裂。

答案：(1)酯基、碳碳雙鍵  (2)加成

(4)C18H16O4

練習冊系列答案
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科目：高中化學 來源： 題型：

光刻膠是大規模集成電路印刷電路版技術中的關鍵材料，某一光刻膠的主要成分如圖所示，下列有關說法正確的是（　　）

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科目：高中化學 來源： 題型：

光刻膠是大規模集成電路印刷電路版技術中的關鍵材料，某一光刻膠的主要成分如圖所示，下列有關說法正確的是（　　）

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科目：高中化學 來源： 題型：

（2011?綿陽模擬）（I）光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光刻版技術中的關鍵材料．某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B．
（1）A經光照固化轉變為B，發生了
加成反應
加成反應
反應（填反應類型）．
（2）寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式
．
（II）A為某芳香烴的衍生物，只含C、H、O三種元素，環上有兩個取代基．又已知A的相對分子質量為150，A不能使FeCl3溶液顯色，但可被新制Cu（OH）2氧化為B，B在濃硫酸存在和加熱時，發生分子內的酯化反應生成C；C分子中有一個含氧的六元環．
（1）B分子中的含氧官能團為（填名稱）
羧基，羥基
羧基，羥基
；
（2）寫出符合上述條件的A的可能的結構式：
；
（3）寫出任意一種A與新制Cu（OH）2反應的化學方程式：
；
（4）寫出任意一種B生成的C化學方程式：
．

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科目：高中化學 來源： 題型：

光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料．某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B．

（1）請指出A中含有的官能團名稱
酯基、碳碳雙鍵
酯基、碳碳雙鍵
（填兩種）．
（2）A經光照固化轉變為B，發生了
加成
加成
反應（填反應類型）．
（3）寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式
．
（4）寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4
．

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科目：高中化學 來源： 題型：

22.光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

⑴請寫出A中含有的官能團_______________（填兩種）。

⑵A經光照固化轉變為B，發生了___________反應（填反應類型）。

⑶寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式______________________________。

⑷寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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