Question

如圖所示是電子工業中某原料的生產流程．其中反應②③你可能不熟悉，其目的是為了提純B；物質A～H均由短周期元素構成；G是五原子分子；A～D均是單質且元素原子的最外層電子數目的關系為C＞A=B＞D；H極易溶于水，且其水溶液是一種強酸．
請回答下列問題：
（1）H的電子式

 

；固體E的晶體類型

 

；G的化學式為

 

．
（2）③所屬的反應類型是

 

．
（3）反應①的化學方程式為

 

．
（4）F在工業上有多種用途，寫出其中一種用途的化學方程式

 

．

Answer 1

分析：根據題中“電子工業中某原料的生產流程”可知應為提純硅的制備流程，反應②③目的是為了提純B，可推知B為Si，原子最外層電子數A=B，說明A→B的反應為同主族的置換反應，則A為C，E為SiO₂，F為CO，Si與單質C化合生成二元化合物G，原子最外層電子數C＞A，G為五原子非極性分子，則G中C元素的化合價為-1，可推知C為Cl₂，G為SiCl₄，G與單質D發生置換反應生成H與Si，則H由Cl元素及D單質元素組成，H極易溶于水，且其水溶液為-種強酸，則H為HCl，據此解答．

解答：解：根據題中“電子工業中某原料的生產流程”可知應為提純硅的制備流程，反應②③目的是為了提純B，可推知B為Si，原子最外層電子數A=B，說明A→B的反應為同主族的置換反應，則A為C，E為SiO₂，F為CO，Si與單質C化合生成二元化合物G，原子最外層電子數C＞A，G為五原子非極性分子，則G中C元素的化合價為-1，可推知C為Cl₂，G為SiCl₄，G與單質D發生置換反應生成H與Si，則H由Cl元素及D單質元素組成，H極易溶于水，且其水溶液為-種強酸，則H為HCl，則：
（1）H為HCl，其電子式為．E為SiO₂，為原子晶體．G的化學式為：SiCl₄，故答案為：；原子晶體；SiCl₄；
（2）反應③是SiCl₄+2H₂

高溫  .

Si+4HCl，屬于置換反應，故答案為：置換反應；
（3）反應①為C和SiO₂的反應，方程式為SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO↑，故答案為：SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO↑；
（4）F為CO，可用作工業熱還原法冶煉金屬的還原劑，如3CO+Fe₂O₃

高溫  .

2Fe+3CO₂，故答案為：3CO+Fe₂O₃

高溫  .

2Fe+3CO₂．

點評：本題考查無機物的推斷，為高考常見題型，注意利用題中信息，判斷為工業提純硅的流程是關鍵，側重于學生的分析能力和推斷能力的考查，難度中等．