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光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B.

(1)請指出A中含有的官能團________(填兩種).

(2)A經光照固化轉變為B,發生了________反應(填反應類型).

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________.

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式________.

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科目:高中化學 來源: 題型:

光刻膠是大規模集成電路印刷電路版技術中的關鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關說法正確的是(  )

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科目:高中化學 來源: 題型:

光刻膠是大規模集成電路印刷電路版技術中的關鍵材料,某一光刻膠的主要成分如圖所示,下列有關說法正確的是(  )

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科目:高中化學 來源: 題型:

(2011?綿陽模擬)(I)光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光刻版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B.
(1)A經光照固化轉變為B,發生了
加成反應
加成反應
反應(填反應類型).
(2)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式

(II)A為某芳香烴的衍生物,只含C、H、O三種元素,環上有兩個取代基.又已知A的相對分子質量為150,A不能使FeCl3溶液顯色,但可被新制Cu(OH)2氧化為B,B在濃硫酸存在和加熱時,發生分子內的酯化反應生成C;C分子中有一個含氧的六元環.
(1)B分子中的含氧官能團為(填名稱)
羧基,羥基
羧基,羥基

(2)寫出符合上述條件的A的可能的結構式:

(3)寫出任意一種A與新制Cu(OH)2反應的化學方程式:

(4)寫出任意一種B生成的C化學方程式:

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科目:高中化學 來源: 題型:

光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B.

(1)請指出A中含有的官能團名稱
酯基、碳碳雙鍵
酯基、碳碳雙鍵
(填兩種).
(2)A經光照固化轉變為B,發生了
加成
加成
反應(填反應類型).
(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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科目:高中化學 來源: 題型:

22.光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

⑴請寫出A中含有的官能團_______________(填兩種)。

⑵A經光照固化轉變為B,發生了___________反應(填反應類型)。

⑶寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式______________________________。

⑷寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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