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下列關于硅及其化合物的說法正確的是（　　）
A、自然界中存在大量硅單質
B、硅酸鹽廣泛用于光纖通訊
C、工藝師利用鹽酸刻蝕石英制作藝術品
D、高純硅是應用廣泛的半導體材料
考點：硅和二氧化硅
專題：碳族元素
分析：A．Si屬于親氧元素，在自然界中沒有硅單質存在；
B．二氧化硅廣泛用于光導通訊；
C．二氧化硅能和HF反應；
D．硅單質屬于半導體材料．
解答： 解：A．Si屬于親氧元素，在自然界中沒有硅單質存在，硅元素以二氧化硅和硅酸鹽形式存在于地殼中，故A錯誤；
B．二氧化硅廣泛用于光導通訊，是利用光全反射原理，硅酸鹽產品有：水泥、玻璃、陶瓷等，故B錯誤；
C．石英的主要成分是二氧化硅，二氧化硅能和HF反應，和稀鹽酸不反應，所以用HF刻蝕石英，故C錯誤；
D．硅元素位于金屬和非金屬元素之間，具有金屬和非金屬的性質，所以Si單質為良好的半導體材料，故D正確；
故選D．
點評：本題考查硅及其化合物，明確硅及其化合物的性質即可解答，知道硅及二氧化硅的用途及其原理，題目難度不大．
練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：

煤化工中常需研究不同溫度下平衡常數、投料比及熱值等問題
已知：CO（g）+H2O（g）?H2（g）+CO2（g）的平衡常數隨溫度變化如下表：
溫度/℃400500800
平衡常數Kc9.9491
試回答下列問題
（1）上述正向反應是：
 
 反應（選填：放熱、吸熱）．
（2）在800℃發生上述反應，以表中的物質的量投入恒容反應器，其中向正反應方向移動的有
 
（選填A、B、C、D、E）
ABCDE
n（CO2）31011
n（H2）21012
n（CO）1230.53
n（H2O）52321
（3）已知在一定溫度下：C（s）+CO2（g）?2CO（g）平衡常數K；C（s）+H2O（g）?CO（g）+H2（g）  平衡常數K1；CO（g）+H2O（g）?H2（g）+CO2（g） 平衡常數K2，則K、K1、K2之間的關系是：
 

（4）在VL密閉容器中通入10molCO和10mol水蒸氣，在T℃達到平衡，然后急速除去水蒸氣（除水蒸氣時各物質的物質的量不變），將混合氣體燃燒，測得放出的熱量為2842kJ（已知CO燃燒熱為283kJ/mol，H2燃燒熱為286kJ/mol），則T℃平衡常數K=
 
．

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科目：高中化學 來源： 題型：

如圖所示的實驗，能達到實驗目的是（　　）
ABCD
驗證化學能
轉化為電能		驗證溫度
對平衡移動的影響		驗證鐵
發生析氫腐蝕		驗證AgCl
溶解度大于Ag2S
A、AB、BC、CD、D

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科目：高中化學 來源： 題型：

下列工業生產過程中，不涉及氧化還原反應的是（　　）
A、用S制備H2SO4
B、煉鐵時用CaO除去原料中的SiO2
C、將海水中的MgSO4轉變為金屬Mg
D、用NO2生產HNO3

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科目：高中化學 來源： 題型：

下列除雜方法正確的是（　　）
A、用金屬鈉除去乙醇中混有的少量水
B、用酸性KmnO4溶液除去甲烷中混有的少量乙烯
C、用H2除去乙烷中混有的少量乙烯
D、用飽和Na2CO3溶液除去乙酸乙酯中混有的少量乙醇和乙酸

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科目：高中化學 來源： 題型：

氯酸鉀和亞硫酸氫鈉發生氧化還原反應生成Cl-和SO42-的速率如圖所示．關于該反應的敘述錯誤的是（　　）
A、氯酸根的氧化性強于硫酸根
B、該反應的速率可能與氫離子濃度有關
C、反應后階段速率變慢是因為氯酸鉀和亞硫酸氫鈉濃度越來越小
D、該反應的離子方程式為：ClO5-+3HSO3-+3OH-→3SO42-+Cl-+3H2O

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科目：高中化學 來源： 題型：

下列應急措施不正確的是（　　）
A、少量濃硫酸濺到皮膚上時，立即用大量水沖洗
B、誤食入重金屬鹽時，立即喝足量牛奶緊急解毒
C、金屬鈉著火時，立即用水澆滅
D、發生一氧化碳中毒時，立即將中毒者移到通風處搶救

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科目：高中化學 來源： 題型：

短周期元素X、Y、Z、W在元素周期表中的位置如圖，其中Z所處的主族序數與周期序數相等，請回答下列問題：
（1）用符號表示X的一種核素：
 
．
（2）Y的原子結構示意圖為
 
．
（3）W的單質與其最高價氧化物的水化物濃溶液共熱能發生反應，寫出該反應的化學方程式并表示出電子轉移的方向和數目：
 
．
（4）298K、101kPa時，X、Z的單質各1mol完全燃燒，分別放出熱量a kJ和b kJ．已知Z的單質能將X從它的最高價氧化物中置換出來，請寫出298K、101kPa時該置換反應的熱化學方程式：
 
．

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科目：高中化學 來源： 題型：

Na2O、NaOH、Na2CO3、NaCl、Na2SO4可按某種標準劃分為同一類物質．下列分類標準正確的是（　　）
①鈉的化合物  ②能與硝酸反應的物質 ③電解質 ④鈉鹽 ⑤鈉的含氧化合物．
A、①④B、③④C、②⑤D、①③

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同步練習冊答案
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