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單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料,工業(yè)上通過以下反應(yīng)將自然界中的二氧化硅(Si02)轉(zhuǎn)化成硅(Si):Si02+2c
 高溫 
.
 
si+2C0↑,下列分析正確的是(  )
分析:物質(zhì)跟氧發(fā)生的反應(yīng)是氧化反應(yīng),氧化物失去氧的反應(yīng)是還原反應(yīng);分解反應(yīng)是指由一種物質(zhì)生成兩種或兩種以上的其它物質(zhì)的反應(yīng),據(jù)此分析解答即可;
解答:解:A、碳在反應(yīng)中得到氧元素,被氧化,是還原劑,表現(xiàn)了碳的還原性;
B、碳在反應(yīng)中得到氧元素,被氧化,是還原劑,發(fā)生了氧化反應(yīng);
C、二氧化硅在反應(yīng)中失去氧元素,被還原是氧化劑,所以二氧化硅發(fā)生了還原反應(yīng);
D、分解反應(yīng)的反應(yīng)物是一種,生成物是多種,因此該反應(yīng)不是分解反應(yīng).
故選A.
點(diǎn)評:應(yīng)注意從不同的角度來認(rèn)識和分析化學(xué)反應(yīng),注重反應(yīng)前后的變化,能從細(xì)微之處去分析氧化還原反應(yīng).
練習(xí)冊系列答案
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科目:初中化學(xué) 來源: 題型:

8、單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.科學(xué)家預(yù)計(jì),到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對硅的純度要求很高.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:
①SiO2+2C=Si+2CO↑  ②Si+2Cl2=SiCl4 ③SiCl4+2H2=Si+4HCl其中,反應(yīng)①和③屬于(  )

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科目:初中化學(xué) 來源:《9.2 化學(xué)與材料》2010年同步練習(xí)(4)(解析版) 題型:選擇題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.科學(xué)家預(yù)計(jì),到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對硅的純度要求很高.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:
①SiO2+2C=Si+2CO↑  ②Si+2Cl2=SiCl4 ③SiCl4+2H2=Si+4HCl其中,反應(yīng)①和③屬于( )
A.化合反應(yīng)
B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng)
D.復(fù)分解反應(yīng)

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科目:初中化學(xué) 來源:2010年甘肅省白銀市會寧縣枝陽中學(xué)中考化學(xué)模擬試卷(解析版) 題型:選擇題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.科學(xué)家預(yù)計(jì),到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對硅的純度要求很高.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:
①SiO2+2C=Si+2CO↑  ②Si+2Cl2=SiCl4 ③SiCl4+2H2=Si+4HCl其中,反應(yīng)①和③屬于( )
A.化合反應(yīng)
B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng)
D.復(fù)分解反應(yīng)

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科目:初中化學(xué) 來源:2010年山東省濰坊市諸城市中考考前模擬化學(xué)試卷(5)(解析版) 題型:選擇題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.科學(xué)家預(yù)計(jì),到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對硅的純度要求很高.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:
①SiO2+2C=Si+2CO↑  ②Si+2Cl2=SiCl4 ③SiCl4+2H2=Si+4HCl其中,反應(yīng)①和③屬于( )

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科目:初中化學(xué) 來源:2010年北京市中考化學(xué)一模解密預(yù)測試卷(四)(解析版) 題型:選擇題

單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料.科學(xué)家預(yù)計(jì),到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠(yuǎn)比我們想象的要大得多,這對硅的純度要求很高.用化學(xué)方法可制得高純硅,其化學(xué)方程式為:
①SiO2+2C=Si+2CO↑  ②Si+2Cl2=SiCl4 ③SiCl4+2H2=Si+4HCl其中,反應(yīng)①和③屬于( )

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