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下列各種制備方法中,前者是物理變化,后者是化學變化的是


  1. A.
    工業制氧氣;實驗室制氧氣
  2. B.
    工業制氫氣;實驗室制氫氣
  3. C.
    工業以CO2制干冰;實驗室以水制冰
  4. D.
    工業開采金剛石;實驗室以石墨制金剛石
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分析:本題考查學生對物理變化和化學變化的確定.判斷一個變化是物理變化還是化學變化,要依據在變化過程中有沒有生成其他物質,生成其他物質的是化學變化,沒有生成其他物質的是物理變化.
解答:A、工業制氧氣,為分離液態空氣;實驗室制氧氣,為分解氯酸鉀、高錳酸鉀、雙氧水,為化學變化;則符合前者是物理變化,后者是化學變化,故A正確;
B、工業制氫氣;實驗室制氫氣,都為化學變化,故B錯誤;
C、工業以CO2制干冰;實驗室以水制冰,前者是化學變化,后者是物理變化,故C錯誤;
D、工業開采金剛石;實驗室以石墨制金剛石,符合前者是物理變化,后者是化學變化,故D正確.
故選A、D.
點評:搞清楚物理變化和化學變化的本質區別是解答本類習題的關鍵.判斷的標準是看在變化中有沒有生成其他物質.
練習冊系列答案
相關習題

科目:初中化學 來源: 題型:

(2009?南京)從20世紀中葉開始,硅成了信息技術的關鍵材料,是目前應用最多的半導體材料.請回答-下列問題:
(1)地殼里各種元素的含量(質量分數)如右圖所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根據元素周期表可知,原子序數為6的碳原子和原子序數為14的硅原子最外層電子數均為4,則常溫下硅的化學性質
不活潑
不活潑
(選瑣“活潑”、“不活潑”).
(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法.生產過程示意如下:

①整個制備過程必須達到無水無氧.在H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

②在生產過程中物質A可循環使用,A的化學式是
HCl
HCl
;在生產過程中還有一種可循環使用的物質是
焦炭
焦炭

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科目:初中化學 來源: 題型:

7、下列各種制備方法中,前者是物理變化,后者是化學變化的是(  )

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科目:初中化學 來源:不詳 題型:多選題

下列各種制備方法中,前者是物理變化,后者是化學變化的是(  )
A.工業制氧氣;實驗室制氧氣
B.工業制氫氣;實驗室制氫氣
C.工業以CO2制干冰;實驗室以水制冰
D.工業開采金剛石;實驗室以石墨制金剛石

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科目:初中化學 來源:《1.1 物質的變化和性質》2010年同步練習(1)(解析版) 題型:選擇題

下列各種制備方法中,前者是物理變化,后者是化學變化的是( )
A.工業制氧氣;實驗室制氧氣
B.工業制氫氣;實驗室制氫氣
C.工業以CO2制干冰;實驗室以水制冰
D.工業開采金剛石;實驗室以石墨制金剛石

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同步練習冊答案
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